| 发明名称 |
テノホビルジソプロキシルの二水素リン酸塩 |
| 摘要 |
ＣｕＫα発光によって測定されたＸＲＰＤにおける以下の特性反射：５．６；７．７；１２．４；１３．６；１６．４；２２．４ ａ ２５．４±０．２°２θを示すテノホビルジソプロキシル二水素リン酸塩、及びその製造方法。 |
| 申请公布号 |
JP2016534047(A) |
申请公布日期 |
2016.11.04 |
| 申请号 |
JP20160522025 |
申请日期 |
2014.09.22 |
| 申请人 |
ゼンティーバ，カー．エス． |
发明人 |
ヤン ホラン;ルジェク リドバン;ミハル ザパドロ;オンドジェイ ダッメル;ヨゼフ ベラーネク;ブラディミール クラル |
| 分类号 |
C07F9/6561;A61K31/675;A61K47/12;A61K47/26;A61K47/32;A61K47/38;A61P31/18 |
主分类号 |
C07F9/6561 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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