| 主权项 |
1.一种净化含杂质之进料气体流之方法,该杂质包含水蒸气及二氧化碳,此方法包含顺序地重复下列步骤:(a)将进料气体流顺序地向上通过包含第一种吸附剂(此种吸附剂自气体中优先吸附水蒸气)之第一微粒状物质床,及向下通过包含第二种吸附剂(此种吸附剂自气体中优先吸附二氧化碳)之第二微粒状物质床;及(b)以相反于进料气体之流动方向,将再生气体通过每一床,以便经由先前吸附之水蒸气及二氧化碳去吸附而将床再生。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中第一床具有之平均粒子尺寸大于第二床之平均粒子尺寸,且第一床之平均粒子尺寸较佳为0.10至0.15寸而第二床之平均粒子尺寸较佳为0.05至0.075寸。3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中于第一床中不吸附二氧化碳,或吸附低于10%之总二氧化碳。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中水蒸气之吸附系于第一床中完成。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中通过第二床之再生气体不流过第一床。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中使用再生气体之各别气流以再生第一及第二床。7. 根据申请专利范围第1项之方法,其中进料气体系空气。8.一种净化进料气体流之装置,此装置依序包含第一微粒状物质床(包含能自进料气体流中优先吸附水蒸气之第一吸附剂),及第二微粒状物质床(包含能自进料流中优先吸附二氧化碳之第二吸附剂);及致使进料气体流向上流过第一床且向下流过第二床,以便使水蒸气与二氧化碳之吸附能发生之设备;以及致使再生气体向下流过第一床与向上流过第二床,以便使先前吸附之水蒸气与二氧化碳脱附之设备。9.根据申请专利范围第8项之装置,其中第一床及第二床系容纳于相同之容器中。10.根据申请专利范围第8或9项之装置,其中于相同之容器中容纳超过一对之第一及第二床。11.根据申请专利范围第9项之装置,其中床系垂直地或水平地分隔。12.根据申请专利范围第8项之装置,其中第一床具有之平均粒子尺寸大于第二床之平均粒子尺寸,且第一床之平均粒子尺寸较佳为0.10至0.15寸而第二床之平均粒子尺寸较佳为0.05至0.075寸。13.根据申请专利范围第8项之装置,其中致使再生气体向下流过第一床与向上流过第二床之装置,系于使用中致使产生通过床之个别流动,通过第二床之再生气体不流过第一床。图示简单说明:图1系图示于圆筒形吸附容器中自空气吸附杂质之略流程图,容器具有一个垂直轴及容纳两个分隔之吸附剂床;图2系图示于图1中显示之吸附床之再生之略流程图;图3系图示一个圆筒形吸附容器之操作之略流程图,容器具有一个垂直轴及容纳4个分隔之吸附剂床;图4系图示一个圆筒形吸附剂容器之操作之略流程图,容器具有一个水平轴及容纳二个分隔之吸附剂床以自进料空气物质流中除去杂质;图5系图示于图4中显示之吸附剂床之再生之略流程图;及图6系图示一个圆筒形吸附剂容器之操作之略流程图,容器具有一个水平轴及容纳四个分隔之吸附剂床以净化空气 |
