| 主权项 |
1.一种相移式光罩的制造方法,包括下列步骤:提供一光罩基底,并依序在该光罩基底上形成一第一相移层及一遮蔽层;蚀刻该遮蔽层及第一相移层,以暴露出该光罩基底,形成一开口;在该光罩基底上方形成一第二相移层;以及回蚀刻该第二相移层,以在该开口内的该遮蔽层与该第一相移层的边墙上,形成一间隙壁。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该光罩基底为一石英基底。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该第一相移层,该遮蔽层,及该第二相移层为一铬薄膜。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该第一相移层,该遮蔽层,及该第二相移层为一铬氧化物薄膜。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中,该第一相移层,该遮蔽层及该第二相移层系利用组成材质的密度不同,以具有不同的透光率。6.一种相移式光罩的制造方法,包括下列步骤:提供一光罩基底,并在该光罩基底上形成一遮蔽层;蚀刻该遮蔽层,以暴露出该光罩基底,形成一开口;在该光罩基底上方形成一相移层;以及回蚀刻该相移层,以在该开口内的该遮蔽层边墙上,形成一间隙壁。7.如申请专利范围第6项所述之方法,其中,该光罩基底为一石英基底。8.如申请专利范围第6项所述之方法,其中,该相移层及该遮蔽层为一铬薄膜。9.如申请专利范围第6项所述之方法,其中,该相移层及该遮蔽层为一铬氧化物薄膜。10.如申请专利范围第6项所述之方法,其中,该相移层与该遮蔽层系利用组成材质的密度不同,以具有不同的透光率。图示简单说明:第一a-一c图绘示一种传统相移式光罩的制造方法,以及第二a-二d图绘示本发明之较佳实施例,第一种相移式光罩的制造方法。第三a-三d图绘示本发明之较佳实施例,第二种相移式光罩的制造方法。 |
