发明名称 | 一种基于泰伯效应恢复光栅缺陷的紫外光刻装置 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种基于泰伯效应恢复光栅缺陷的紫外光刻装置,属于微电子、微光学、微纳结构和光电子器件制备等微纳加工领域的光刻技术领域,解决现有技术存在的极紫外光源体积大,成本高,操作安全系数难以保证的问题。本实用新型包括高压汞灯、冷光椭球镜、冷光反射镜、快门、积木错位蝇眼透镜、聚光镜、大反射镜、精密工件台、计算机及电控系统。本实用新型用于对缺陷掩膜结构的完整恢复。 | ||
申请公布号 | CN205670230U | 申请公布日期 | 2016.11.02 |
申请号 | CN201620482965.3 | 申请日期 | 2016.05.24 |
申请人 | 四川科奥达技术有限公司 | 发明人 | 邓茜;刘俊伯;赵立新;胡松 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人 | 徐金琼 |
主权项 | 一种基于泰伯效应恢复光栅缺陷的紫外光刻装置,其特征在于:包括高压汞灯(1)、冷光椭球镜(2)、冷光反射镜(3)、快门(4)、积木错位蝇眼透镜(5)、聚光镜(6)、大反射镜(7)、精密工件台(8)、计算机及电控系统(13);高压汞灯(1):用于发出多种成分光,包括紫外i线光、h线光、g线光、可见光和红外光,作为对掩膜版和样片的照明与曝光光源;冷光椭球镜(2):用于聚光、光能最大化,并过滤对曝光有害的可见光和红外等多种成分的长波段光;冷光反射镜(3):用于再一次过滤长波段光,并对光路发挥转折作用;快门(4):用于控制光的曝光时间和曝光剂量;积木错位蝇眼透镜(5):用于将光进行均匀照明、消衍射和侧壁陡度处理;聚光镜(6):用于将光准直为平行光,并对平行光进行扩束处理;大反射镜(7):用于对光路起转折作用;精密工件台(8):用于承载掩膜版和样片,以及将掩膜版和样片进行对准及定位支撑;计算机及电控系统(13):用于对快门开启时间及曝光剂量的控制,对精密工件台的整体运动及掩膜版与样片的相对运动进行控制。 | ||
地址 | 610207 四川省成都市双流航空港开发区 |