| 主权项 |
1.一种处理装置,其特征为:具备在上下方向隔着间隔略水平地收容复数之板状被处理体,具有形成被处理体之交接口的前面,与具有光之透过部的侧面的至少载置一个载体所用的载体载置台,及具备将上述载体内之被处理体依次取出并交接给处理单元所用地,至少进退自如及对于上述载体载置台相对地构成昇降自如之被处理体保持构件的运送部本体,及在该运送部本体,突设成沿着载体之一侧延出的臂,及光通过上述被处理体之一部分水平方向地夹住该一部分成为相对向之状态,分别设于运送部本体与臂,用以检出有无在上述载体载置台上的载体内之各段被处理体所用的一对光学性检出手段等。2.如申请专利范围第1项所述之处理装置,其中,上述臂系,进退自如地设于运送部本体者。3.如申请专利范围第2项所述之处理装置,其中,运送部本体之被处理体保持构件系进退自如地设于运送部本体者。4.如申请专利范围第3项所述之处理装置,其中,上述其中一方之光学检出手段系具有镜及光耦合器之其中一方的光学零件,而另一方之光学检出手段系具有另一方之光学零件,从该光耦合器所射出之光的反射至镜而被受光于光耦合器者。5.如申请专利范围第4项所述之处理装置,其中,上述其中一方之光学检出手段系具有发光元件及受光元件之其中一方,另一方之光学检出手段系具有另一方的光学元件,从该发光元件所射出之光系受光于受光元件者。6.如申请专利范围第1项所述之处理装置,其中,又具有用于对位上述载体载置台上之载体所用的对位手段者。7.如申请专利范围第6项所述之处理装置,其中,上述对位手段系包括从载体之对角线方向两侧引导载体载置台上之载体并对位所用地互相相对向设置的一对对位构件者。8.如申请专利范围第7项所述之处理装置,其中,上述载体之底面部系方形,一对对位构件系互相接近地,引导相对于载体或载置台之角隅部,形成适合于该角隅部之形状者。9.如申请专利范围第8项所述之处理装置,其中,具有互相向相反方向同时地移动一对对位构件的手段者。10.如申请专利范围第9项所述之处理装置,其中,上述移动手段系具有分别连接于一对对位构件之气缸,及在这些气缸同时供给空气的手段者。图式简单说明:第一图系表示本发明之一实施例的处理装置所适用之涂布,显像处理装置之一部分的斜视图,第二图系表示于第一图之装置之被处理基板运送机构的斜视图,第三图系表示于第一图之装置实行变换之样子的平面图,第四图系表示于第一图之装置的载体载置部上之对位构件的平面图,第五图系表示于第一图之装置的载体载置部上之对位构件的斜视图,第六图系表示于第一图之装置的对位构件予以动作之气缸之空气配管的图式,第七图系表示于第一图之整体涂布,显像处理装置之概观的斜视图,第八图系概略地表示以往之涂布,显像处理装置的平面图。 |
