| 主权项 |
1.一种涂布膜形成装置,其特征为具备有:将基板实质上加以保持水平之基板保持机构;及具有从基板之一方端部延伸至另一方端部之开缝状之液吐出口之喷嘴;及对此喷嘴供给涂布液之涂布液供给机构;及将前述喷嘴支持成:前述液吐出口可与基板保持一定间隔之状态,向与前述液吐出口之长度(longitudinal)方向直交之方向使喷嘴对基板作相对性平行移动之移动机构;等而上述喷嘴亦具备有:从上述涂布液供给机构导入涂布液之入口;及各与此入口及上述液吐出口连通,将经由前述入口导入之涂布液临时加以积留,向上述液吐出口送出涂布液之液积留部;及被设在上述液吐出口之长度方向两端部侧,而减低从液吐出口之长度方向两端部侧所吐出之涂布液之吐出压力之膜厚控制机构;等并由上述膜厚控制机构使:从液吐出口之长度方向两端部侧所吐出之涂布液之吐出压力,与从液吐出口之中间部侧所吐出之涂布液之吐出压力实质上成为相等,由此使形成在基板上之涂布膜之膜厚均一化;等为特征者。2.如申请专利范围第1项之涂布膜形成装置;其中上述液积留部之短边侧面乃由扩张倾斜内壁及第1垂直内壁所规定,且上述液积留部之长边侧面则由第2垂直内壁及缩小推拔内壁及第3垂直内壁所规定;进一步,前述第一垂直内壁则规定上述液吐出口之长度方向两端;等为特征者。3.如申请专利范围第2项之涂布膜形成装置;其中在上述扩张倾斜内壁之处,上述液积留部之Y轴方向之径乃被扩张;为特征者。4.如申请专利范围第2项之涂布膜形成装置;其中上述缩小推拔内壁之处,上述液积留部之X轴方向之径乃被缩小;为特征者。5.如申请专利范围第2项之涂布膜形成装置;其中上述膜厚控制机构乃具备有:各在上述第1垂直内壁开口之复数之连通路;及各与各连通路连通之复数之吸引管;及使各吸引管内排气之真空泵;等为特征者。6.如申请专利范围第2项之涂布膜形成装置;其中上述膜厚控制机构乃具备有:各在上述第1垂直内壁开口之复数之连通路;及各与各连通路连通之吸引管;及将各吸引管内加以减压之排出器(ejector)机构;等为特征者。7.如申请专利范围第2项之涂布膜形成装置;其中上述膜厚控制机构乃具有:各在上述扩张倾斜内壁与第1垂直内壁之间开口之复数之大气开口路;及开闭各大气开口路所用之开口调整阀等;而将开启前述开口调整阀,则大气开口路将向大气开放;结果,液吐出口之长度方向两端部将被减压,从此所吐出之涂布液之吐出压力亦将被减低;等为特征者。8.如申请专利范围第1项之涂布膜形成装置;其中进一步具有:对从液吐出口之长度方向两端部侧所吐出而涂布在基板即后之涂布液加以加热之加热器;为特征者。9.如申请专利范围第8项之涂布膜形成装置;其中上述加热器乃经由隔热间隔件被安装在喷嘴之侧面下部;为特征者。10.如申请专利范围第1项之涂布膜形成装置;其中进一步具有:将从液吐出口之长度方向两端部侧所吐出而涂布在基板即后之涂布液之粘性加以提高,同时使此涂布于基板即后之涂布液中之溶剂(稀释剂)挥发之乾燥机构;为特征者。11.如申请专利范围第1项之涂布膜形成装置;其中上述喷嘴乃至少其液吐出口为由树脂所制造;为特征者。12.如申请专利范围第1项之涂布膜形成装置;其中上述基板乃为矩形状之LCD用玻璃基板,而上述涂布液乃为光敏抗蚀剂液(photoresist liquid);等为特征者。图式简单说明:第一图表示以往装置之开缝喷嘴之概略断面图。第二图将以往装置之开缝喷嘴所吐出之涂布液膜加以模型式表示之横断面图。第三图表示由以往装置所涂布之涂布膜之状态之放大断面图。第四图表示本发明之实施形态之涂布膜形成装置之概要之概略斜视图。第五图表示本发明之实施形态之涂布膜形成装置之部分平面图。第六图说明开缝喷嘴之起动动作所用之概要图。第七图表示本发明之第1实施形态之涂布膜形成装置之部分断面图。第八图将从开缝喷嘴所吐出之涂布液膜加以模型式表示之横断面图。第九图形成于LCD用玻璃基板上之抗蚀剂膜之膜厚分布图。第十图表示本发明之第2实施形态之涂布膜形成装置之部份断面图。第十一图表示本发明之第3实施形态之涂布膜形成装置之断面图。第十二图表示本发明之第4实施形态之涂布膜形成装置之断面图。第十三图表示沿第十二图之XIII-XIII线切断之第4实施形态之装置之概略断面图。第十四图表示具有涂布膜形成装置之涂布显影处理系统之概要之斜视图。 |
