| 主权项 |
1.一种具下式之化合物其中R与R'分别为氢或硫代基,A为C1-C6烷撑,其系未被插入或经-O-基插入,或A为甲撑苯撑,Y为乙烯基或-硫酸根乙基,及s为1之数目且K为具下列式之基其中R9为乙醯基,苯甲醯基或具下式之基其中X为卤素,T为未经取代或经非反应性基取代之胺基,或T为具下列式之反应性基或R1为氢或C1-C4烷基,alk及alk'分别为C1-C6烷撑,arylene为未经取代或经硫代基取代之苯撑基,W为-CONR2-基,及R2为氢,m为0之数目,R12及R13分别为氢,羟基或硫酸根基,R17及R17'分别为氢,甲基,甲氧基或2-羟基乙氧基,及Y为如上文所定义者,或s为2之数目且K为具下列式之基或其中R10'为氰基或氨基甲醯基,R12及R13分别为氢或未经取代或经硫酸根基取代之C1-C6烷基,X为卤素,及B及B2为直链或分枝之C2-C6烷撑。2.根据申请专利范围第1项之化合物,其中A为1,2-乙撑,1,3-丙撑,1,4-丁撑或具式-(CH2)2-3-O-(CH2)2-3-基。3.根据申请专利范围第1项之化合物,其中R为氢或硫代基;R'为氢。4.根据申请专利范围第1项之化合物,其中s为1之数目。5.根据申请专利范围第1项之化合物,其中s为2之数目。6.根据申请专利范围第1项之化合物,其中K为式(11a),(7a),(7b),(7c)或(7d)之基。7.一种制备根据申请专利范围第1项之式(1)化合物之方法,其包含重氮化s莫耳当量之下式化合物且偶合此产物至约1莫耳当量之下式偶合成份K-(H)s (13),其中A,K,R,R',Y及s分别为如申请专利范围第1项之定义。8.一种含有下式化合物之醯亚胺基染料其中A,K,R,R'及s分别为如申请专利范围第1项之定义。9.一种制备含有根据申请专利范围第8项式(16a)及(16b)化合物之醯亚胺基染料之方法,其包含于硷性介质下处理根据申请专利范围第1项式(1)化合物。 |
