| 摘要 |
건식 스트립 플라즈마 처리를 위하여 유도 플라즈마 소스를 위한 플라즈마 리액터 및 개선된 가스 주입 방법이 개시된다. 본 개시 내용의 실시예에 따르면, 가스가 중심으로부터가 아니라 플라즈마 챔버의 측벽에 인접하게 배치된 가스 주입 채널을 통해 플라즈마 챔버로 공급되어, 공정 가스가 유도 코일에 근접하게 플라즈마 챔버로 들어간다. 특정 실시예에서, 챔버에 들어간 공정 가스는 효율적인 전자 가열이 발생하는 유도 코일에 인접한 활성 구역 또는 반응 부피부를 통과하도록 강제되어, 가열 영역에서 공정 가스 흐름 및 가둠을 개선함으로써 증가된 효율의 리액터를 제공한다. |
