发明名称 具漏电防止覆膜之彩色影像管
摘要 本发明之彩色影像管,备有:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部、朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,而在上述屏板部的面板外面具备有附着了由以金(Au)、银(Af)或铂(Pt)属之贵金属元素之一种以上的金属粒子为主要成分的导电性高折射率第1层、以及以二氧化矽(SiO2)或氟化镁(MgF2)为主要成分之低折射率第2层所构成之2层覆膜的漏电防止覆膜。
申请公布号 TW372324 申请公布日期 1999.10.21
申请号 TW087101661 申请日期 1998.02.06
申请人 日立制作所股份有限公司;日立装置工程股份有限公司 发明人 西泽昌紘;内山则和;东条利雄
分类号 H01J29/88 主分类号 H01J29/88
代理机构 代理人 林志刚
主权项 1.一种具漏电防止覆膜之彩色影像管,其主要备有:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部,而朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,其特征在于:在上述屏板部之表面外面具有附着了由以金(Au)、银(Ag)或铂(Pt)属之贵金属元素中之一种以上的金属粒子为主要成分的导电性第1层、以及以二氧化矽(SiO2)或氟化镁(MgF2)为主要成分的第2层所构成的2层覆膜的漏电防止覆膜。2.如申请专利范围第1项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,上述漏电防止覆膜之导电性第1层的折射率为一较为2层之折射率为大的値。3.如申请专利范围第1项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,具有附着了上述漏电防止覆膜之导电性第1层之可见光领域的平均透光率为50-90%的2层覆膜的漏电防止覆膜。4.如申请专利范围第1项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,具有附着了上述漏电防止覆膜之导电性第1层的表面电阻在1103/以下之2层覆膜的漏电防止覆膜。5.一种具漏电防止覆膜之彩色影像管,其主要备有:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部,而朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,其特征在于:在上述屏板部之表面外面具有附着了由以金(Au)、银(Ag)或铂(Pt)属之贵金属元素中之一种以上的金属粒子为主要成分的导电性高折射率第1层、积层在该导电性高折射率第1层之上,而以二氧化矽(SiO2)或氟化镁(MgF2)为主要成分之低折射率第2层、以及形成在该低折射率第2层之上表面凹凸的低折射率第3层所构成之覆膜的漏电防止覆膜。6.如申请专利范围第5项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,具有附着了上述漏电防止覆膜之导电性第1层之可见光领域的平均透光率为50-90%的覆膜的漏电防止覆膜。7.如申请专利范围第5项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,具有附着了上述漏电防止覆膜之导电性第1层的表面电阻在1103/以下之覆膜的漏电防止覆膜。8.一种具漏电防止覆膜之彩色影像管,其主要备有:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部,而朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,其特征在于:在上述屏板部之表面外面具有附着了由以金(Au)、银(Ag)或铂(Pt)属之贵金属元素中之一种以上的金属粒子为主要成分,且在表面具有凹凸之导电性第1层、积层在该导电性高折射率第1层之上,而以二氧化矽或氟化镁为主要成分之低折射率第2层之覆膜的漏电防止覆膜。9.如申请专利范围第8项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,具有附着了上述漏电防止覆膜之导电性第1层之可见光领域的平均透光率为50-90%的覆膜的漏电防止覆膜。10.如申请专利范围第8项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,具有附着了上述漏电防止覆膜之导电性第1层的表面电阻在1103/以下之覆膜的漏电防止覆膜。11.一种具漏电防止覆膜之彩色影像管,其主要备有:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部,而朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,其特征在于:在上述屏板部之表面外面具有附着了由以金(Au)、银(Ag)或铂(Pt)属之贵金属元素中之一种以上的金属粒子为主要成分,且表面电阻在1103/以下的导电性高折射率第1层,以及积层在该导电性高折射率第1层之上,而以二氧化矽(SiO2)或氟化镁(MgF2)为主要成分,且包含在可见光领域显示选择吸收特性之色素之低折射率第2层之覆膜的漏电防止覆膜。12.一种具漏电防止覆膜之彩色影像管,其主要备有:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部,而朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,其特征在于:在上述屏板部之表面外面具有附着了备有以金(Au)、银(Ag)或铂(Pt)属之贵金属元素中之一种以上的金属粒子为主要成分的导电性高折射率第1层、以及低折射率第2层所构成的2层覆膜的漏电防止覆膜,该漏电防止覆膜之可见光领域的平均透光率为45-80%,且表面电阻在1.6103/以下。13.如申请专利范围第12项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,上述漏电防止覆膜之导电性第1层之铂(Pt)属的贵金属元素包含铑、铷、钯、铱、锇之其中一种。14.如申请专利范围第12项之具漏电防止覆膜之彩色影像管,上述漏电防止覆膜的导电性第1层包含银(Ag)与铂(Pt)属的贵金属元素。15.一种彩色影像管,其主要系针对:由屏板部、颈部、以及用于连接该屏板部与该颈部的漏斗部部所构成的真空外围器、被涂布在上述屏板部内面的萤光体膜、以及被收容在上述颈部,而朝该萤光体膜射出3条电子束的电子枪,以及在上述屏板部之表面外面备有漏电防止覆膜的彩色影像管,其特征在于:上述漏电防止覆膜系由以下的过程所形成,亦即,在上述屏板部之表面外面涂布以金(Au)、银(Ag)、铂(Pt)属之贵金属元素中之一种以上的金属粒子为主要成分之分散液的金属粒子涂布过程,使该分散液乾燥,而在已涂布之表面外面附着形成导电性高折射率第1层的导电性高折射率第1层形成过程、在该导电性高折射率第1层上涂布以二氧化矽(SiO2)或氟化镁(MgF2)为主要成分之醇类溶液的低折射率第2层涂布过程,在该低折射率第2层涂布过程后加热,而在表面外面附着形成低折射率第2层之低折射率第2层形成过程。16.如申请专利范围第15项之彩色影像管,上述漏电防止覆膜系由包含藉由上述金属粒子涂布后之加热而形成上述导电性高折射率第1层之过程的制造过程所制造。图式简单说明:第一图系表本发明之具有漏电防止覆膜之彩色影像管之实施例的概略断面构成图。第二图系表在本发明实施例1之彩色影像管中所使用之2层覆膜之一部分的断面构成图。第三图系表在本发明实施例2之彩色影像管中所使用之2层覆膜之一部分的断面构成图。第四图系表在本发明实施例3之彩色影像管中所使用之2层覆膜之一部分的断面构成图。第五图系表在本发明实施例4之彩色影像管中所使用之2层覆膜之一部分的断面构成图。第六图系表将实施例1之2层覆膜被覆形成在面板(face plate)之过程的流程图。第七图系表将实施例1之2层覆膜被覆形成在面板(face plate)之过程的流程图。第八图系表将实施例1之2层覆膜被覆形成在面板(face plate)之过程的流程图。第九图系表将实施例4之2层覆膜被覆形成在面板之过程的流程图。第十图系表具有实施例1之2层覆膜之彩色影像管之分光透过率的特性图。第十一图系表具有实施例4之2层覆膜之彩色影像管之分光透过率的特性图。第十二图系表具有实施例5之2层覆膜之彩色影像管之分光透过率的特性图。第十三图系表本发明之实施例6.7之表面处理膜之可见光领域的透光率与其表面电阻之关系的说明图。第十四图系表本发明之实施例6,7.8之彩色影像管之表面处理膜之表面电阻与电磁波之泄漏量之测量结果的说明图。第十五图根据国际的基准规格(瑞期的TCO)以数値来比较本发明之实施例6.7.8之彩色影像管之表面处理膜之防止电磁波泄漏效果的说明图。第十六图将本发明之实施例6.7.8的彩色影像管的处理膜形成成本与喷溅膜及透明导电膜的形成成本比较的说明图。第十七图系表用于说明彩色影像管之面板之透过率的面板断面模式图。第十八图系表构成面板之各种的玻璃材料的透过率与形成在此之处理膜单独的透过率以及综合处理膜与玻璃之透过率的说明图。第十九图系表习知之彩色影像管之透过率的说明图。
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