| 主权项 |
1.一种垂直热处理装置,供在热处理炉之均匀热区内对欲受处理物件做热处理,该装置包含:一供打开及关闭热处理炉喉道之帽盖;一安装于该帽盖上之绝热结构;以及一盛载多数片在垂直间隔排列之绝热板上之欲处理的基片的基片座,其中,该绝热结构包含多数个用以支撑该基片座之直立支撑杆;以及多片具有可供该等支撑杆插入的插入孔并被该等支撑杆支撑且由间隔物以指定垂直间隔分隔之薄绝热板。2.如申请专利范围第1项所述之垂直热处理装置,其中该等支撑杆具有欲安装在配置于该帽盖上端之一接受器上的圆形基座,该等多数根支撑杆架设于该基座上。3.如申请专利范围第1项所述之垂直热处理装置,其中该等支撑杆在其中心有中空部,且多数个通气孔在其一侧或两侧上形成。4.如申请专利范围第1项所述之垂直热处理装置,其中该基片座有啮合部份位于其下端。5.如申请专利范围第1项所述之垂直热处理装置,其中该等支撑杆是坚硬且具有啮合于该基片座内圆周中之截断部。6.如申请专利范围第1项所述之垂直热处理装置,其中该等绝热板系以由CVD形成之碳化矽薄膜形成。7.如申请专利范围第1项所述之垂直热处理装置,其中该等绝热板呈具有隆起部份之剖面形式。8.如申请专利范围第3项所述之垂直热处理装置,其中由该基片座下端伸出之突出啮合部份啮合于该等支撑杆之中空部内。图式简单说明:第一图系为依据本发明之垂直热处理装置之垂直剖面图,概略地显示其大致构造。第二图系为第一图垂直热处理装置中绝热结构之垂直剖面图。第三图系为具有第二图绝热结构中支撑杆之基板的平面图。第四图系为基板上之支撑杆在第三图之x方向上的侧视图。第五图A至第五图C系为第二图之绝热结构之绝热板在其形成方法各步骤中之垂直剖面图。第六图A及第六图B系为绝热板在其另一种形成方法各步骤中之垂直剖面图。第七图A及第七图B系为绝热板在其更另一种形成方法各步骤中之垂直剖面图。第八图A及第八图B系为有间隔物在不同位置形成之绝热板之平面图。第九图系为多片堆叠着的绝热板之概略垂直剖面图。第十图A及第十图B系为绝热板一种变化型态之图式,第十图A为其平面图,第十图B为沿着第十图A之x-x线之垂直剖面图。第十一图A及第十一图B系为绝热板另一变化型态之图式,第十一图A为其平面图,第十一图B为沿着第十一图A之XI-XI线之垂直剖面图。第十二图系为绝热结构另一变化型态之垂直剖面图。第十三图系为第十二图绝热结构由上俯视之平面图。第十四图系为第十三图绝热结构支撑杆截断部之放大透视图。第十五图系为传统垂直热处理装置中绝热结构之垂直剖面图。第十六图系为垂直热处理装置中绝热结构之变化型态之垂直剖面图。 |
