发明名称 淋浴室构造改良
摘要 本创作系关于一种淋浴室构造改良,其中:该淋浴室主要藉由弯挠成L形之上轨杆,配合门片与另一门片之内侧,断面形成一公扣缘与母扣槽;配合以材质弹性令二门片可以公扣缘与母扣槽相互扣合;且侧柱内侧断面形成一槽口较门片公扣缘为窄之母扣槽;配合以材质弹性令门片与侧柱可以公扣缘与母扣槽相扣合;另以一挡水片,设于门片下部,且挡水片向淋浴室内侧面,形成一三角斜面,以斜面所形成之渐高斜度,形成挡水外流之设置,又藉本创作于组装时,可利用支撑座对于上轨杆形成一扶托之力臂,对于上轨杆有一强固支撑而避免上轨杆被门片重量沉拖而下坠。
申请公布号 TW400895 申请公布日期 2000.08.01
申请号 TW088216360 申请日期 1999.09.28
申请人 曾聪辉 发明人 曾聪辉
分类号 E06B3/48 主分类号 E06B3/48
代理机构 代理人 卢信智 台南巿西门路一段五七九号三楼
主权项 1.一种淋浴室构造改良,其中:该淋浴室主要包括:一上轨杆:成一杆体,上轨杆弯挠成L形,且上轨杆二端分别插设于固定于壁面之支 座;一支 座:主要包括一框体,座设于侧柱顶部,中央框室形成开口向内;一外托管,自框体之端壁向内延伸成一弧状管体,该管体下部形成一缺槽,缺槽二侧则形成下弧部;一内 杆,轴向设于外托管管内,较外托管为短而自框体之端壁向内延伸成一半圆状杆体;二门片:门片装设于上轨杆下部,且整体门片以皱摺单元片所组成,令门片可挠曲启闭;且各门片之外侧部断面形成一较宽之公扣缘;且任一门片之内侧,断面形成一较宽之公扣缘,而另一门片之内侧,断面形成一槽口较公扣缘为窄之母扣槽;配合以材质弹性令二门片可以公扣缘与母扣槽相互扣合;二侧柱:分别固定设于形成L形壁角之壁面,且侧柱内侧断面形成一槽口较门片公扣缘为窄之母扣槽;配合以材质弹性令门片与侧柱可以公扣缘与母扣槽相扣合;一挡水片:设于门片下部,且挡水片向淋浴室内侧面,形成一三角斜面,以斜面所形成之渐高斜度,形成挡水外流之设置。2.如申请专利范围第1项所述之淋浴室构造改良,其中:该淋浴室之且任一门片之内侧,断面至少形成一较宽之公扣缘外,亦可同时兼设一母扣槽,而另一门片之内侧,断面除至少形成一槽口较公扣缘为窄之母扣槽外,亦可同时兼设一公扣缘。图式简单说明:第一图为习用立体图。第二图为本创作立体图。第三图为本创作门片与侧柱扣合示意图。第四图为本创作门片与门片柱扣合示意图。第五图为本创作挡水片立体图。第六图为本创作支 座立体分解图。
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