| 主权项 |
1.一种真空投料搅拌分散装置,该装置其特征包含有:一密闭容器,其内部系为容纳液体和固体的混合物之容器;一落料器,系为位于密闭容器顶端,而可供固体均匀落料于密闭容器内;一搅拌器,其搅拌叶扇主要系可伸置于密闭容器内部中央处或近底部处,而可供为均匀搅拌之用。2.依据申请专利范围第1项所述之真空投料搅拌分散装置,该装置之密闭容器内系为真空状态,且该真空度可依据所搅拌的混合物之后加工之需求,而调整该所需之真空度。3.依据申请专利范围第1项所述之真空投料搅拌分散装置,其中该搅拌器在旋转搅拌时,同时也可以垂直上下移动。4.依据申请专利范围第1项所述之真空投料搅拌分散装置,其中该落料器系可包含有置料槽和落料导引器。5.依据申请专利范围第4项所述之真空投料搅拌分散装置,其中该所述之落料导引器系可为梯状式。6.依据申请专利范围第4项所述之真空投料搅拌分散装置,其中该所述之落料导引器系可为直落式。7.依据申请专利范围第4项所述之真空投料搅拌分散装置,其中该所述之落料导引器系可装置过筛网。8.依据申请专利范围第1项所述之真空投料搅拌分散装置,其中密闭容器与置料槽之间设置一恒压导管。9.依据申请专利范围第1项所述之真空投料搅拌分散装置,其中设置在密闭容器近底部处之搅拌器,该搅拌器系利用一位于密闭容器内部的轴套来连接搅拌叶扇。10.依据申请专利范围第9项所述之真空投料搅拌分散装置,其中轴套系藉由一由下朝上设置的传动轴来带动。11.依据申请专利范围第1项所述之真空投料搅拌分散装置,其中密闭容器亦可装设一刮除装置。图式简单说明:第一图系为习知搅拌装置之平面示意图。第二图系为习知之固体和液体的混合物示意图。第三图系为本创作第一较佳实施例之平面示意图。第四图系为本创作第二较佳实施例之平面示意图。第五图系为本创作第三较佳实施例之平面示意图。第六图系为本创作每一个小固体和液体的混合物之示意图。 |
