发明名称 气体轴承,石版印刷投影装置,制造一气体轴承之方法,使用一石版印刷投影装置以制造一装置之方法,及以该方法制成之装置
摘要 一种在一陶瓷体(l)内形成的气体轴承,其利用一个别的节流构件以界定空气节流功能构件。该个别构件可以为金属衬垫5,其中安置一嵌入物6,该嵌入物6具有一开口以界定确实之节流功能。此外,该个别构件也可以为具有在接附于主体之前或之后且由雷射或研磨所加工而成之节流功能构件之陶瓷板8。
申请公布号 TW421733 申请公布日期 2001.02.11
申请号 TW088107691 申请日期 1999.05.12
申请人 艾斯门石版印刷公司 发明人 印邦派崔克邝
分类号 G03F9/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种气体轴承,包含一内部具有一气体供应管路之陶瓷主体,以及至少一接附于主体之个别节流构件用于覆盖该气体供应管路之末端,并且在气体供应管路中界定至少一气体节流功能构件。2.根据申请专利范围第1项之气体轴承,其中该节流构件包一内部设置有嵌入物之金属衬垫,以界定该气体节流功能构件。3.根据申请专利范围第1项之气体轴承,其中该节流构件包含一黏合于该主体外表面之陶瓷板,并且具有至少一开口以界定该气体节流功能构件。4.根据申请专利范围第1项之气体轴承,其中该节流构件包含一直接配置于该主体之宝石轴承,并且具有界定该气体节流功能构件之通孔。5.一种石版印刷投影装置,其包含:一照明系统,用于供应一照明投影光束;一第一目标物台,设有用于架持与定位光罩于光罩图形之光罩台;一第二目标物台,设有用于架持与定位基板之基板台;及一投影系统,用于将光罩之被照明部分以倍率M映射于基板之目标部分,其特征为:至少该目标物台之一包含一附有气体轴承之陶瓷主体,该气体轴承包含至少气体供应管路与至少一个别节流构件附设于该主体,以在气体供应通路中界定至少一气体节流功能构件。6.一种制造一气体轴承之方法,包含下列步骤:设置一陶瓷制之主体并在其内部设置至少一气体供应管路;将至少一个别节流构件中接附于该主体,用以在气体供应通路内界定至少一气体节流功能构件。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中该节流构件包含一金属衬垫,该金属衬垫内配置有一具有一通孔之嵌入物,以界定该气体节流功能构件。8.根据申请专利范围第7项之方法,其中该附设步骤包含下列步骤:将该金属衬垫配置于主体上;在该金属衬垫内加工一内袋以装设嵌入物;及将该嵌入物配置于金属衬垫中。9.根据申请专利范围第6项之方法,其中该节流构件包含一陶瓷板,其具有至少一界定气体节流功能构件之开口。10.根据申请专利范围第9项之方法,其中该开口系以雷射加工。11.根据申请专利范围第9项之方法,其中该开口系以研磨加工。12.根据申请专利范围第9项之方法,其中该开口系于其完全烧结之前于陶瓷板中加工。13.根据申请专利范围第9,10,11或12项之方法,其中进一步包含将该陶瓷板之下方表面修整至所需平坦度之步骤。14.根据申请专利范围第6项之方法,其中该节流构件包含一直接装设于该主体之宝石轴承,并且具有界定气体节流功能构件之通孔。15.一种使用一石版印刷投影装置以制造一装置之方法,包含下步骤:设置一基板,其至少一部分由能敏性材料层所覆盖;设置一含有图形之光罩;利用一照明投影光束以倍率M将光罩图形之至少一部分之影像投影于能敏性材料层之目标区域;其特征为:至少光罩与基板其中之一在投影时由目标物台所支撑与定位,该目标物台包含一附有气体轴承之陶瓷主体,该气体轴承包含至少一形成于该主体中之气体供应通路以及至少一附设于主体之个别节流构件,以在气体供应通路中界定至少一气体节流功能构件。图式简单说明:第一图为连续扫描石版印刷装置之部分图;第二图A为包括本发明之第一具体例之气体轴承之定位台(目标物台)之滑动组件之剖面图;第二图B为第二图A之气体轴承中之节流孔之放大图;及第三图为本发明之第二具体例之定位台含一气体轴承之滑动组件之剖面图。
地址 荷兰