发明名称 多功能锥反射投射机构
摘要 一种多功能锥反射投射机构,主要包括由两个基座、连杆、斜套、雷射模组及锥体所成的锥反射投射组所组成;其中基座的组合边具连接孔及孔洞以结合连杆及斜套;两相对基座的斜套分别套接雷射模组及锥体;利用斜套、雷射模组及锥体的套合关系,可方便、准确的调整雷射模组及锥体的相对位置,使该两者心轴成一直线,使雷射模组投射于锥体的雷射光呈360度的反射,且反射光圈所成的平面垂直于心轴;又基座包括二互相垂直且与组合边亦互相垂直的侧边;该侧边上可分别结合另一组锥反射投射组,即可投射出三个互相垂直的雷射光圈。
申请公布号 TW426154 申请公布日期 2001.03.11
申请号 TW088220838 申请日期 1999.12.07
申请人 吴其颖 发明人 吴其颖
分类号 G01C9/00 主分类号 G01C9/00
代理机构 代理人 王明昌 台北市复兴南路二段二三六号十一楼之一
主权项 1.一种「锥反射投射机构」,包括两基座结合连杆、斜套、雷射模组及锥体所组成;该两基座结合于连杆两端;该两基座之组合边设孔洞以供斜套穿置于其内;该两基座的斜套分别穿置雷射模组及锥体。2.一种「多功能锥反射投射机构」,包括如申请专利范围第1项所述之「锥反射投射机构」,其一基座包括一与其组合边相垂直之侧边,该侧边结合另一组如申请专利范围第1项所述之「锥反射投射机构」。3.如申请专利范围第2项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该基座包括与该侧边、组合边均互相垂直之另一侧边;该另一侧边结合另一组如申请专利范围第1项所述之「锥反射投射机构」。4.一种「多功能锥反射投射机构」,包括如申请专利范围第1项所述之「锥反射投射机构」,其一基座包括一与其组合边相垂直之侧边,该侧边与另一基座之组合边结合于连杆两端;该侧边与另一基座之组合边均设孔洞;该结合边之孔洞内结合两套接之斜套,该侧边之孔洞及该两斜套内部分别套接雷射模组及锥体。5.如申请专利范围第4项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该基座包括与该侧边、组合边均互相垂直之另一侧边;该另一侧边与另一基座之组合边均设孔洞;该组合边之孔洞内结合两套接之斜套,该侧边之孔洞及该两斜套内部分别套接雷射模及锥体。6.如申请专利范围第1.2.3.4和5项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该基座的上结合面以连杆结合一连接构件;该连接构件设有中央结合孔。7.如申请专利范围第6项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该各个基座上设有连接孔、连接构件设有结合孔,以供结合于连杆两端中之一连接部。8.如申请专利范围第7项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该各个基座、斜套上设有定位孔。9.如申请专利范围第8项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该定孔孔内可螺入螺钉或注入定位胶。10.如申请专利范围第9项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该连杆之两侧连接部之间设有贯穿孔。11.如申请专利范围第2或3项所述之「多功能锥反射投射机构」,其中该侧边系与穿过另一组锥反射投射机构基座上结合面的连杆之连接部相连接固定。12.一种「锥反射投射机构」,包括两基座结合连杆、斜套、雷射模组及锥体所组成;该两基座结合于连杆两端;该两基座之组合边设孔洞,其中一基座之组合边之孔洞内结合两套接之斜套;该两斜套及另一基座之组合边之孔洞内部分别套接雷射模组及锥体。图式简单说明:第一图为本创作锥反射投射机构立体示意图。第二图为本创作锥反射投射机构部分剖面示意图。第三图为本创作基座、连杆立体示意图。第四图为本创作多功能锥反射投射机构立体示意图。第五图为本创作另一实施例立体示意图。第六图为本创作又一实施例立体示意图。
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