| 主权项 |
1.一种半导体废气处理装置,主要包括有裂解腔、滤净腔及污水处理装置三大部份,其中该裂解腔的内腔壁设有一温度侦测器用以伺控加热器以恒温状态运作,且内腔壁设有一铝箔层,设有一铝箔层,能产生热反射作用的缩短裂解腔加热时间,另该裂解腔的底端另接设有一可拆卸之集尘筒,能避免腔底转角端积堵尘垢且清洁保养简易;另该滤净腔内部上段位堆置有多个金属管材,可令排放气中的残余水份凝附在金属管材壁面的降低含水份;另该污水处理装置系含有一G型储槽,能将污水产生之大部份废气隔绝于槽内,其中该G型储槽内设有一含由输送带、主动轴、从动轴、梳状滚轴、刮板、泻板、减速马达等元件组成之淤泥清除装置,能定时驱动的将储槽内沉淀之淤泥自动移出刮除作业者。2.依据申请专利范围第1项所述一种半导体废气处理装置,其中;该污水处理装置的输送带系藉由主动轴、从动轴之穿设、及梳状滚轴的压抵成L型的设置。3.依据申请专利范围第1项所述一种半导体废气处理装置其中;该裂解腔的腔体结构系可设成由二相对部可拆开、锁合的形态,另该裂解腔本体系可固定架设于架体上或藉以悬滑轨支撑悬设者。4.依据申请专利范围第1项所述一种半导体废气处理装置,其中;该裂解腔的废气导入管端可接设一防气爆器。5.依据申请专利范围第1项所述一种半导体废气处理装置,其中;该裂解腔的内部可形成有数道间隔挡流板。图式简单说明:第一图:系本创作半导体废气处理装置配置概示图第二图:系本创作实施例的裂解腔结构局部示意图。第三图:系本创作实施例的滤净腔结构示意图。第四图:系本创作实施例污水处理装置结构示意图。第五图:系本创作实施例的污水处理装置之局部结构示意图。第六图:系本创作实施例的污水处理装置之梳状滚轴结构示意图。第七图:系本创作实施例裂解腔可拆式结构示意图。第八图:系本创作实施例的裂解腔加装防气爆器结构示意图。第九图:系本创作实施例的裂解腔具挡流板结构示意图。 |
