发明名称 芳香族二羧酸之制法
摘要 本发明系使用简单装置,藉简单操作,不会发生堵塞,可以良好效率进行晶体分离和洗净,同时可以回收溶剂和触媒,而且有效率进行溶剂更换的芳香族二羧酸之制法。本发明系在氧化反应器l内,于含触媒的溶剂中,将具有烷基取代基或部份氧化的烷基取代基之芳香族化合物,利用含分子氧的气体加以液相氧化,制造芳香族二羧酸,由浆液槽4或精制反应器7所得含芳香族二羧酸结晶之浆液,导入在固体输出区具有过滤部的离心分离机5a或5b进行离心分离,分离成结晶和分离液,分离所得结晶在移动固体输出区之际,于过滤部进行过滤,同时与洗净液接触,从过滤部排出洗净排放液,而将晶体洗净。
申请公布号 TW430649 申请公布日期 2001.04.21
申请号 TW086116160 申请日期 1997.10.30
申请人 三井化学股份有限公司 发明人 谏山滋;冈本悦郎;田敏幸;铃木 弘;岩田秀昭
分类号 C07C63/14 主分类号 C07C63/14
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种芳香族二羧酸之制法,系在含触媒的溶剂中,将具有烷基取代基或部份氧化的烷基取代基之芳香族化合物,利用含分子氧的气体加以液相氧化,而制造芳香族二羧酸,其中,将含有反应所生成芳香族二羧酸结晶的浆液,导入在固体输出区具有过弥部的离心分离机,进行离心分离,分离成晶体和分离液,而分离后的晶体在移动固体输出区之际,于过滤部进行过滤,同时与洗净液接触,利用离心力,从过滤部排出洗净排放液,而将晶体洗净者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中纯晶为对苯二甲酸或二羧酸者。3.如申请专利范围第1或第2项之方法,其中离心分离机为倾析器型离心分离机者。4.如申请专利范围第1或第2项之方法,其中经复数段供应洗净液,加以重复洗净者。5.如申请专利范围第4项之方法,其中后段洗净排放液用做前段洗净液者。图式简单说明:第一图为对苯二甲酸制法具体例系统图;第二图为离心分离机一具体例之部份断面图;第三图为离心分离机另一具体例之部份断面图。
地址 日本