| 主权项 |
1.一种曝光装置,乃具有对形成有转印用图案的掩模上,照射曝光能光束之照明系统;和将欲转印上述掩模图案的基板予以定位之载物台系统,其特征为具备着:在上述曝光能光束的光路中至少一部分上,供应对上述曝光能光束的透光率高,且热导率良好的气体之气体供应装置;及将从上述气体供应装置供应给上述曝光能光速光路上后的上述气体中至少一部分加以回收之气体回收装置者。2.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中上述气体为氦气者。3.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中上述气体回收装置是可由多数曝光装置共用者。4.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中将上述气体回收装置所回收的上述气体,经由上述气体供应装置中至少一部分,在上述曝光能光束的光路上再循环者。5.如申请专利范围第4项之曝光装置,其中上述气体供应装置系具备着:用于测定从上述气体回收装置所供应的上述气体浓度之浓度计;上述气体以气体状态或被液化的状态被封存之气体源;及因应上述浓度计的测定结果,将来自上述气体源的气体补充给由上述气体回收装置所供应的气体中之控制部。6.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中上述气体供应装置系具备着:将上述气体以液化保存或高压保存之气体源;使上述气体源内的液化气体或高压气体还原为上述气体之转换装置;及欲将来自上述气体源的上述气体供应给上述曝光装置之前,调整上述气体的温度及压力之调整装置。7.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中上述气体回收装置是可将上述所回收的气体加以液化或高压化后保存者。8.一种曝光装置,乃是以所定曝光能光束照射于掩模,而将形成于该掩模的图案转印在基板上,其特征为:具有利用控制用的第1气体,施加所定动作之气体控制式驱动装置;在上述曝光能光束的光路中至少一部分上,供应透光率良好的第2气体,同时,且作为上述气体控制式驱动装置用的上述第1气体,使用了和上述第2气体同一种类的气体。9.如申请专利范围第8项之曝光装置,其中上述气体控制式驱动装置为;以气体轴承方式与导向面接触之载物台装置,气体式气缸装置,或将气体作为缓冲材料的一部分使用之防震台者。10.如申请专利范围第8项之曝光装置,其中上述曝光能光束若为250nm以下波长的紫外光时,上述第2气体即为氮气或氦气者。11.如申请专利范围第8项之曝光装置,其中上述曝光能光束如为200nm以下波长的紫外光时,上述第2气体即为氦气者。12.如申请专利范围第8项之曝光装置,其中上述曝光能光束若为X射线时,上述第2气体即为氮气或氦气者。13.一种曝光装置,仍具备着:具被保持构件所保持的多数光学元件,而可使来自照明光源的照明光线照射掩模之照明光子系统;和具被保持构件所保持的多数光学元件,而可使上述掩模上的图案影像投影到感光基板上之影光学系统之曝光装置中,其特征为,不使用粘结剂,而可将上述所有的光学元件,使用按压机构保持在上述保持构件者。14.如申请专利范围第13项之曝光装置,其中上述按压机构是将其一端固定在上述保持构件的内周部,而以其另一端为按压上述光学元件的外周部之板簧者。15.如申请专利范围第11项之曝光装置,其中上述按压机构是可螺合在上述保持构件内周部所刻设的螺纹,为使其栓紧进去而按压上述光学元件的外周之螺纹环者。16.一种曝光装置,乃具备着:具包含由多数棒状透镜梱扎成束的复眼透镜之多数光学元件,而使来自照明光源的照明光线照射掩模之照明光学系统;和具被保持构件所保持的多数光学元件,而使上述掩模上的图案影像投影到感光基板上之投影光学系统之曝光装置中,其特征为,不使用粘结剂,而将上述多数棒状透镜用保持装置梱札成束者。17.一种曝光装置的制造方法,乃是使曝光能光束照射掩模的同时,并经由该掩模,利用上述曝光能光束使基板曝光的装置之制造方法,其特征为:将供应可减低该曝光能光束衰减的气体之供应管,连接于可将曝光能光束的光路中至少一部分大体上密封之气体室;而将用于回收供应给上述气体室气体中至少一部分之回收管,连接于上述气体室与该气体室所配置的框体中至少其一者。18.如申请专利范围第17项之曝光装置之制造方法,其中将上述回收管连接于要从所回收的气体中去除杂质之去除装置的同时,并将上述供应管与去除装置相连接者。19.如申请专利范围第17项之曝光装置之制造方法,其中不用粘结剂,将上述曝光能光束所要通过的光学元件固定在保持构件后,将其组装在上述曝光装置者。20.如申请专利范围第18项之曝光装置之制造方法,其中不使用粘结剂,将上述曝光能光束所要通过的光学元件固定在保持构件后,将其组装在上述曝光装置者。21.如申请专利范围第17-20项中任一项之曝光装置之制造方法,其中使设于上述曝光装置,而其所使用的气体在光学上的特性实质上和上述气体相同之气体控制式驱动装置,与该气体的供应源相连接者。22.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中在照明系统与投影系统之间,供应透射曝光能光束的气体,同时在投影系统与基板之间,具有供应透射该曝光能光束气体的第2气体供应装置。23.如申请专利范围第22项之曝光装置,其中供应于构成照明系统或投影系统的光学元件间之气体种类,与供应于照明光学系统与投影光学系统之间的气体或投影光学系统与基板之间的气体种类为相异者。24.如申请专利范围第23项之曝光装置,其中供应于照明系统或投影系统之光学元件间之气体为氦(He),供应于照明系统与投影系统之间的气体或供应于投影系统与基板之间的气体为氮。25.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中具有至少由气体回收装置所回收的气体之一部分,再度供应于光路之一部分的循环装置,及再度供应于光路之一部分用来量测气体浓度的浓度计。26.如申请专利范围第25项之曝光装置,其中该浓度之量测结果未达到规定之容计値时,具有对光路之一部分停止供应气体的控制装置。27.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中具有回收自气体供应装置供应于曝光能光束之光路上的气体之一部分的气体回收装置,该气体供应装置或气体回收装置,系配置于设置曝光装置本体的床下。28.一种曝光方法,于形成转印用之图案的光罩,藉由照明系统照射来自光源之曝光能光束,藉由投影系统转印光罩之图案于基板上的曝光方法,其特征为具有:在构成照明系统或投影系统的光学元件间,供应对曝光能光束的透射率高,且热传导率良好的气体之步骤;以及自气体供应装置供应于曝光能光束之光路上后,具有回收气体之至少一部分的步骤。29.一种曝光方法,于形成转印用之图案的光罩照射曝光能光束,转印图案之像于基板上,其特征为具有:至少在曝光能光束之光路的一部分,供应透射曝光能光束的气体之步骤;至少回收供应于光路上的气体之一部分,再度供应于至少光路之一部分的步骤;量测自气体循环装置至少供应于光路之一部分气体之浓度的步骤,以及依据量测结果,用来控制气体之供应及其停止的步骤。图式简单说明:第一图系本发明实施例1的投影曝光装置、氦气循环装置的一部分、及氮气循环装置的一部分之部分剖面概略构成图。第二图系实施例1的氦气循环装置及氮气循环装置的主要部分之部分剖面概略构成图。第三图系本鞑明实施例2的多数台投影曝光装置,及1台氦气回收装置之部分断面概略构成图。第四图系本发明实施例1的投影曝光装置变形例之部分断面概略构成图。第五图系本发明实施例3的投影曝光装置,及氦气供应装置之部分断面概略构成图。第六图系第五图中的晶片载物台之主要部分由X方向所视之断面图。第七图系投影光学系统的透镜以板簧保持时之概念图。第八图系利用板簧作为按压机构之详细图。第九图系复眼透镜的详细斜视图。第十图(A)系复眼透镜的俯视图。第十图(B)系复眼透镜的正视图。第十图(C)系复眼透镜的侧视图。 |
