发明名称 METHOD OF MANUFACTURING LCD HAVING HIGH APERTURE RATIO AND HIGH TRANSMITTANCE
摘要 <p>본 발명은 5회의 포토 공정만으로 제조 가능한 고개구율 및 고투과율 액정표시장치의 제조방법을 개시한다. 본 발명은 6회의 포토 공정을 이용하는 종래의 고개구율 및 고투과율 액정표시장치의 제조방법과 유사한 공정순으로 진행되며, 단지, 카운터 전극과 게이트 라인 및 공통전극 라인을 동일한 식각 마스크를 사용하여 연속적으로 형성시킨다. 본 발명의 실시예에 따른 카운터 전극과 게이트 라인 및 공통전극 라인의 형성방법은, ITO 금속막과 MoW 금속막의 적층막 상에 레지스트를 도포하는 제1공정과, 상기 레지스트를 노광 및 현상하여, 게이트 라인 및 공통전극 라인이 형성될 영역을 가리는 제1부분은 도포 두께를 그대로 유지하고, 카운터 전극이 형성될 영역을 가리는 제2부분은 일부 두께만 잔류되며, 상기 제1 및 제2부분들 이외의 제3부분은 제거된 형태를 갖는 레지스트 패턴을 형성하는 제2공정과, 상기 레지스트 패턴을 식각 마스크로해서, 상기 MoW 금속막을 건식 식각하여 게이트 라인과 공통전극 라인을 형성하는 제3공정과, 상기 잔류된 레지스트 패턴 및 MoW 금속막을 식각 마스크로해서, 상기 ITO 금속막을 습식 식각하여 카운터 전극을 형성하는 제4공정, 및, 상기 잔류된 레지스트 패턴 및 MoW 금속막을 제거하는 제5공정을 포함한다.</p>
申请公布号 KR100325079(B1) 申请公布日期 2002.03.02
申请号 KR19990060325 申请日期 1999.12.22
申请人 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 发明人 이경하;초성현
分类号 G02F1/137;G02F1/1341;G02F1/1343;G02F1/1345;G02F1/1368;G02F1/139;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3205;H01L21/336;H01L21/77;H01L21/84;H01L29/786 主分类号 G02F1/137
代理机构 代理人
主权项
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