| 主权项 |
1.一种过滤平面光子装置中光学组件所产生光学噪讯之方法,该装置具有所界定之光线路径,该方法包含下列步骤:放置折射率改变区域对称地位于光学组件之光线下游路径之每一侧,使用该折射率改变之区域以防止光线向前传播至路径之外侧。2.依据申请专利范围第1项之方法,其中光学组件具有光学介质,放置折射率改变区域之步骤包含下列步骤:形成一条或多条沟槽于路径之每一侧,一条或多条沟槽中断构成光子装置之光学介质。3.依据申请专利范围第1项之方法,其中一条或多条沟槽具有壁板,以及方法更进一步包含下列步骤:利用一种反射或吸收光线之材料涂覆一条或多条沟槽之壁板。4.依据申请专利范围第2项之方法,其中更进一步包含下列步骤:利用一种反射或吸收光线之材料填充一条或多条沟槽。5.依据申请专利范围第1项之方法,其中光子装置具有由一种介质所形成之心蕊层,以及其中放置折射率改变区域之步骤包含下列步骤:形成锯齿状区域处理元件于构成光子装置介质之心蕊层中,每一元件具有一个平面位于垂直于光线传播之路径。6.依据申请专利范围第5项之方法,其中形成锯齿形式之区域处理元件之步骤形成制造构成光子装置介质之心蕊层方法的部份步骤。7.一种沿着一条路径传播光线之平面光子装置,该平面光子装置包含:至少一个光学组件,其包含光学噪讯之光源以及传播光线之路径,折射率改变区域对称性地位于光学组件下游之传播光线路径每一侧,使用折射率改变区域以防止光线向前传播离开路径。8.依据申请专利范围第7项之光子装置,其中折射率改变区域包含:一个或多个中断构成光子装置之光学介质以及位于传播光线路径之任何一侧。9.依据申请专利范围第8项之光子装置,其中一个或多个沟槽填充反射或吸收光线之材料。10.依据申请专利范围第8项之光子装置,其中一个或多个沟槽界定出壁板,以及壁板涂覆反射或吸收光线之材料。11.依据申请专利范围第7项之光子装置,其中光子装置具有由介质形成之心蕊层,以及其中折射率改变区域更进一步包含:一个或多个区域,其具有界定于介质心蕊层之锯齿状元件,每一锯齿状元件具有平面之表面位于垂直于传播光线之路径。图式简单说明:第一图(图1)显示包含光学噪讯来源的平面光子装置图;第二图(图2)显示当非对称模100%被激发时,图1中之装置的能量分布图;第三图(图3)显示将本发明第一实施例的过滤方法,增加到图1中之光子装置的修改图;第四图(图4)显示当非对称模100%被激发时,图3中之装置的能量分布图;第五图(图5)显示当对称模被激发以沿着主要波导运输能量时,图3中之装置的能量分布图;第六图(图6)显示将本发明第二个实施例的过滤方法,增加到图1中之光子装置的修改图;第七图(图7)显示本发明第二个实施例的过滤方法对侧边凸出部份光线之影响;第八图(图8)显示当非对称模100%被激发时,图6中之装置的能量分布图;第九图(图9)显示当对称模被激发以沿着主要波导运输能量时,图6中之装置的能量分布图。 |
