| 主权项 |
1.一种投影光学系统,其系将形成在第一面上的图案图像以实质上相等倍率投影在第二面上,其特征为上述投影光学系统自上述第一面端依序具备:第一部分光学系统;及第二部分光学系统,其系在上述投影光学系统之瞳孔面对面,与上述第一部分光学系统对称性构成,上述第一部分光学系统具有:第一组的一对凹面形状折射面,其系配置成彼此相对;及第二组的一对凹面形状折射面,其系在该第一组之一对凹面形状之折射面之间的光程中,配置成彼此相对。2.如申请专利范围第1项之投影光学系统,其中上述第一部分光学系统自上述第一面端依序具有:凹面朝向上述第二面端的第一负透镜、凹面朝向上述第二面端的第二负透镜、凹面朝向上述第一面端的第三负透镜、及凹面朝向上述第一面端的第四负透镜。3.如申请专利范围第2项之投影光学系统,其中上述第一部分光学系统自上述第一面端依序具有:具有正折射力的第一正透镜群、具有负折射力的第一负透镜群、及具有正折射力的第二正透镜群,上述第一负透镜群自上述第一面端依序具有:凹面朝向上述第二面端的第一负透镜、凹面朝向上述第二面端的第二负透镜、凹面朝向上述第一面端的第三负透镜、及凹面朝向上述第一面端的第四负透镜,假设上述第一部分光学系统的焦点距离为F1,上述第一负透镜群的焦点距离为f1N时,满足-0.4<f1N/F1<0的条件。4.如申请专利范围第1项之投影光学系统,其中上述第一部分光学系统自上述第一面端依序具有:具有正折射力的第一正透镜群、具有负折射力的第一负透镜群、及具有正折射力的第二正透镜群,上述第一负透镜群自上述第一面端依序具有:凹面朝向上述第二面端的第一负透镜、凹面朝向上述第二面端的第二负透镜、凹面朝向上述第一面端的第三负透镜、及凹面朝向上述第一面端的第四负透镜,假设上述第一部分光学系统的焦点距离为F1,上述第一负透镜群的焦点距离为f1N时,满足-0.4<f1N/F1<0的条件。5.一种投影光学系统,其系将形成在第一面上的图案图像以实质上相等倍率投影在第二面上,上述投影光学系统之特征为自上述第一面端依序具备:第一部分光学系统;及第二部分光学系统,其系在上述投影光学系统之瞳孔面对面,与上述第一部分光学系统对称性构成,上述第一部分光学系统自上述第一面端依序具有:具有正折射力的第一正透镜群、具有负折射力的第一负透镜群、及具有正折射力的第二透镜群,对供应至上述投影光学系统之照明光线之光学元件的折射率n对周围温度T的变化率以dn/dT表示时,构成上述第二正透镜群的至少一个负透镜满足dn/dT<0的条件。6.如申请专利范围第5项之投影光学系统,其中构成上述第二正透镜群的至少一个正透镜满足dn/dT>0的条件。7.一种投影光学系统,其系将形成在第一面上的图案图像以实质上相等倍率投影在第二面上,上述投影光学系统之特征为具有非球面,假设沿着上述第一面及上述第二面之光轴的距离为L,沿着自上述第一面至上述非球面为止之光轴的距离LA时,满足0.035<LA/L<0.3的条件。8.如申请专利范围第7项之投影光学系统,其中上述投影光学系统具有在上述投影光学系统之瞳孔面对面,对称性配置成的第一非球面及第二非球面,假设沿着上述第一面及上述第二面之光轴的距离为L,沿着自上述第一面至上述非球面为止之光轴的距离为LA时,满足0.035<LA/L<0.3的条件。9.一种投影光学系统,其系使用将形成在第一面上之掩膜图案之图像投影在配置有感光性基板之第二面上的微影术,上述投影光学系统之特征为具备:第一非球面及第二非球面,上述第一非球面及上述第二非球面彼此形状相同。10.一种投影光学系统的制造方法,其系使用将形成在第一面上之掩膜图案之图像投影在配置有感光性基板之第二面上的微影术,其特征在于包含:第一步骤,其系准备数个光学元件;第二步骤,其系将所准备之数个光学元件中之至少两个形成指定形状的非球面,至少获得第一非球面光学元件及第二非球面光学元件;第三步骤,其系检查上述第一及第二非球面光学元件的面形状;及第四步骤,其系沿着光轴配置上述光学元件。11.一种投影光学系统,其系以申请专利范围第10项之制造方法所制造者。12.一种曝光装置,其特征为具备:申请专利范围第1至9项、及11项中任一项之投影光学系统;及照明光学系统,其系用于照明设置在上述第一面上的掩膜;经由上述投影光学系统,将形成在上述掩膜上之图案曝光在设定于上述第二面的感光基板上。13.一种微型装置的制造方法,其特征为包含:曝光步骤,其系使用申请专利范围第12项之曝光装置,将上述掩膜图案曝光在上述感光性基板上;及显像步骤,其系将经由上述曝光步骤所曝光之上述感光性基板予以显像。14.一种曝光方法,其特征为包含:照明步骤,其系照明以指定图案所形成的掩膜;及曝光步骤,其系使用申请专利范围第1至9项、及11项中任一项之投影光学系统,将设定在上述第一面之上述掩膜图案曝光在设定于上述第二面的感光性基板上。图式简单说明:图1概略显示具备本发明之实施形态之投影光学系统之曝光装置的构造。图2显示本实施形态第一种实施例之投影光学系统的透镜构造。图3显示第一种实施例之投影光学系统的球面像差、像散像差及畸变像差。图4显示第一种实施例之投影光学系统的彗形像差。图5显示本实施形态之第二种实施例之投影光学系统的透镜构造。图6显示第二种实施例之投影光学系统的球面像差、像散像差及畸变像差。图7显示第二种实施例之投影光学系统的彗形像差。图8为藉由使用本实施形态之曝光装置,在板件上形成指定图案,获得微型装置之液晶显示元件之方法的流程图。图9为本发明之实施形态之制造方法的制造流程图。图10概略显示测定应该形成各透镜之玻璃方块之折射率之绝对値及折射率分布之干扰仪装置的构造。图11概略显示测定各透镜之面形状误差之干扰仪装置的构造。图12概略显示测定使用灯光源之投影光学系统之波面像差之斐索干扰仪方式之波面像差测定机的构造。图13概略显示测定使用ArF准分子雷射光源之投影光学系统之波面像差之PDI方式之波面像差测定机的构造。图14概略显示可构成间隔调整及偏芯调整之投影光学系统的内部构造。 |
