| 主权项 |
1.一种光学系统,特别是微影投影曝照系统,特别是具有一长孔状像场或非旋转对称照明,a)有一光学元件包含至少一隔室密封隔绝于大气压力且受边界表面围蔽且有一流体填充物,其中至少一边界表面至少局部受照明光曝照;b)流体源,其具有经由一流体供应线路至该隔室之一流体连接;及c)控制装置,其用来控制该液体填充物之压力;其中该至少一受围蔽隔室(5;105;105')设计为在该至少一隔室(5;105;105')内之流体压力有变化时会导致有一相对于光学元件(1;101)光学轴线之n重对称,其中n大于1,的光学元件非旋转对称成像特性有所变化。2.如申请专利范围第1项之光学系统,其中至少形成隔室(5)边界受照明光辐照之表面的区域至少局部由一可弹性变形材料(3,4)构成,该可弹性变形区域之边缘轮廓(9,10)为非旋转对称。3.如申请专利范围第2项之光学系统,其中该边缘轮廓(9,10)有一相对于该光学元件光学轴线之n重对称,其中n大于1。4.如申请专利范围第3项之光学系统,其中该边缘轮廓(9,10)为椭圆造型。5.如申请专利范围第3项之光学系统,其中该边缘轮廓(9,10)为多边形。6.如申请专利范围第1项之光学系统,其中该至少一隔室(5;105;105')内之流体压力有变化时会导致该光学元件(1;101)之像散成像特性有所变化。7.如申请专利范围第2项之光学系统,其中至少形成隔室(5)边界受照明光辐照之表面的区域至少局部由一可弹性变形材料(3,4)构成,该可弹性变形区域之边缘轮廓(9,10)为非旋转对称。8.如申请专利范围第7项之光学系统,其中该边缘轮廓(9,10)有一相对于该光学元件光学轴线之n重对称,其中n大于1。9.如申请专利范围第8项之光学系统,其中该边缘轮廓(9,10)为椭圆造型。10.如申请专利范围第8项之光学系统,其中该边缘轮廓(9,10)为多边形。11.如申请专利范围第2至5及7至10项中之任一项之光学系统,其中该光学介质有一反射涂层。12.如申请专利范围第2至5及7至10项中之任一项之光学系统,其中该可弹性变形光学介质(3,4)由一支承装置(6,11,7,12)在其边缘区域支承,该光学介质(3,4)与支承装置(6,11,7,12)接触之支承面的形状加诸于该可弹性变形表面区域之边缘轮廓(9,10)。13.如申请专利范围第12项之光学系统,其中该光学介质有一反射涂层。14.如申请专利范围第12项之光学系统,其中该光学介质为一薄膜(3,4)。15.如申请专利范围第14项之光学系统,其中该光学介质有一反射涂层。16.如申请专利范围第12项之光学系统,其中该光学介质为一石英板。17.如申请专利范围第16项之光学系统,其中该光学介质有一反射涂层。18.如申请专利范围第12项之光学系统,其中该光学介质为一氟化钙(CaF2)板。19.如申请专利范围第18项之光学系统,其中该光学介质有一反射涂层。20.如申请专利范围第1项之光学系统,其中构成隔室(105,105')边界之该等表面中之一表面的至少一区域受照明光(148)辐照且由在相互垂直平面内具有不同曲率之至少一刚性光学表面构成。21.如申请专利范围第20项之光学系统,其中该光学元件(101)由以下组合构成:至少二个光学组件(127,128),每一组件包含至少一隔室(105,105')密封隔绝于大气压力且受边界表面围蔽,该至少一隔室有一液体填充物且受照明光(148)辐照,该等光学组件(127,128)至少在构成各隔室(105,105')边界之表面之其中一表面的区域内具有至少一光学表面在相互垂直平面内有着不同曲率;且其中分配给该等光学组件(127,128)之隔室(105,105')内液体填充物之压力的独立控制系藉由一控制装置(147)确保。22.如申请专利范围第21项之光学系统,其中该光学元件设计为其在分配给该等光学组件之隔室(105,105')内流体填充物的压力相等的条件下具有本质上旋转对称成像特性。23.如申请专利范围第20项之光学系统,其中该光学元件得设计为其在分配给该等光学组件之隔室(105,105')内流体填充物的压力相等的条件下具有像散成像特性。24.如申请专利范围第6项之光学系统,其中构成隔室(105,105')边界之该等表面中之一表面的至少一区域受照明光(148)辐照且由在相互垂直平面内具有不同曲率之至少一刚性光学表面构成。25.如申请专利范围第24项之光学系统,其中该光学元件(101)由以下组合构成:至少二个光学组件(127,128),每一组件包含至少一隔室(105,105')密封隔绝于大气压力且受边界表面围蔽,该至少一隔室有一液体填充物且受照明光(148)辐照,该等光学组件(127,128)至少在构成各隔室(105,105')边界之表面之其中一表面的区域内具有至少一光学表面在相互垂直平面内有着不同曲率;且其中分配给该等光学组件(127,128)之隔室(105,105')内液体填充物之压力的独立控制系藉由一控制装置(147)确保。26.如申请专利范围第25项之光学系统,其中该光学元件设计为其在分配给该等光学组件之隔室(105,105')内流体填充物的压力相等的条件下具有本质上旋转对称成像特性。27.如申请专利范围第1.21及25项中之任一项之光学系,其中该控制装置(22;147)设计为能够产生降减压和超压。28.如申请专利范围第24项之光学系统,其中该光学元件得设计为其在分配给该等光学组件之隔室(105,105')内流体填充物的压力相等的条件下具有像散成像特性。29.如申请专利范围第1.6.21至23.25至26及28项中之任一项之光学系统,其中该流体为一气体。30.如申请专利范围第29项之光学系统,其中该流体为一稀有气体。31.如申请专利范围第1.6.21至23.25至26及28项中之任一项之光学系统,其中该流体为一液体。32.如申请专利范围第21至26及28项中之任一项之光学系统,其中在相互垂直平面内具有不同曲率之该光学表面可为一柱面透镜(130,130')之一表面。33.如申请专利范围第32项之光学系统,其中该柱面透镜(130,130')为一平凸柱面透镜。34.如申请专利范围第1.6.21至23.25至26及28项中之任一项之光学系统,其中该控制装置(22;147)对一监测该光学元件(1;101)及/或光学系统之成像特性的感测器排列(26;126)有一信号连接(23,24,25;123,124,125),该控制装置(22;147)在该流体填充物内加诸一以该感测器排列(26;126)之发送信号资料为函数的压力。35.如申请专利范围第34项之光学系统,其中该感测器排列(26;126)有一位置灵敏感测器。36.如申请专利范围第35项之光学系统,其中该位置灵敏感测器(26;126)为一电荷耦合元件。37.如申请专利范围第34项之光学系统,其中该控制装置(22;147)设计为能够产生降减压和超压。38.如申请专利范围第34项之光学系统,其中该流体为一气体。39.如申请专利范围第38项之光学系统,其中该流体为一稀有气体。40.如申请专利范围第34项之光学系统,其中该流体为一液体。图式简单说明:第一图为一具有可变形光学表面之气体填充光传输元件的子午线剖面;第二图为第一图传输元件之平面图,其中该传输元件之一气体供应排列额外以一方块回路图显示;第三图为第一图传输元件之局部简图,其中该传输元件内气体压力大于环境压力;第四图为沿第三图中线IV-IV取得之剖面图;第五图与第三图相似,其中该传输元件内气体压力小于环境压力;第六图为沿第五图中线VI-VI取得之剖面图;第七图为一具有不可弹性变形光学表面之气体填充光传输元件的子午线剖面;且第八图为沿第七图中线VIII-VIII取得之剖面图,其中该传输元件之一气体供应排列额外以一方块回路图显示。 |
