发明名称 丙烯酸或甲基丙烯酸衍生物及由其制得之聚合物
摘要 下列化学式之一种单体:其中R5,R6及R7彼此独立为氢,烷基,氰基,烷氧羰基或氨基甲醯;Z为间隔基或直接键;及R为具有被保护终端羟基之羟基烷基,能制造用于生产光阻组成物之聚合物。
申请公布号 TW491860 申请公布日期 2002.06.21
申请号 TW087106542 申请日期 1998.04.23
申请人 和光纯药工业股份有限公司 发明人 角野元重;深泽和仁
分类号 C08F220/00 主分类号 C08F220/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种具有化学式[1]之单体,其中R5,R6及R7彼此独立为氢原子,烷基,氰基,烷氧羰基或氨基甲醯基;Z为二价有机基团或直接键结;及R为一具有一或多个受保护之终端羟基的羟基烷基或羟基烷烯基,其可形成一含氧环。2.如申请专利范围第1项之单体,其中在化学式[1]中的R为具有化学式[2]之基团:其中R1及R2彼此独立为氢原子,经取代或未取代之烷基或脂环烃基,及R1及R2可一起形成一个脂肪族环;R3为烷基,烷烯基,羟烷基,羟基氧羰基或烷基甲矽烷基,或化学式[3]:其中R4为烷基;及R1,R2及R3如上所界定,及R3及R4可一起形成一个含氧环。3.如申请专利范围第1项之单体,其中该Z系为一具有化学式[4]之基团:其中A2为具有一或多个氧原子之二价烃基;A1与A3彼此独立地为低级烷撑基;m为0或1;及p,q或r彼此独立地为0或1,但规定当m为1时,q为1。4.如申请专利范围第1项之单体,其中在化学式[I]中R为具有化学式[2]之基团:其中R1及R2彼此独立为氢原子,经取代或未取代之烷基或脂环烃基,及R1及R2可一起形成一个脂肪族环;R3为烷基,烷烯基,羟烷基,羟基氧基羰基或烷基甲矽烷基,或R为具有化学式[3]之基团:其中R4为烷基;及R1,R2及R3如上所界定,及R3友R4可一起形成一个含环,及Z为具有化学式[4]代表之基团:其中A2为具有一或多个氧原子之二价烃基;A1与A3彼此独立地为低级烷撑基;m为0或1;及p,q或r彼此独立地为0或1,但规定当m为1时,q为1。5.一种包含有下列化学式[1a]之单体单元作为组份之聚合物,其中R5,R6,R7彼此独立地为氢原子,烷基,氰基,烷氧羰基或氨基甲醯;Z为二价有机基团或直接键结;及R为一具有一或多个受保护之终端羟基的羟基烷基或羟基烷烯基,其可形成一含氧环。6.如申请专利范围第5项之聚合物,其中在化学式[1a]中的R系为具有化学式[2]之基团:其中R1及R2彼此独立为氢原子,经取代或未取代之烷基或脂环烃基,及R1及R2可一起形成一个脂肪族环;R3为烷基,烷烯基,羟烷基,羟基氧基羰基或烷基甲矽烷基,或R为具有化学式[3]之基团:其中R4为烷基;及R1,R2及R3如上所界定,及R3及R4可一起形成一个含氧环。7.如申请专利范围第5项之聚合物,其中Z为具有化学式[4]的基团:其中A2为具有一或多个氧原子之二价烃基;A1与A3彼此独立地为低级烷撑基;m为0或1;及p,q或r彼此独立地为0或1,但规定当m为1时,q为1。8.如申请专利范围第5项之聚合物,其中在化学式[1a]R系具有化学式[2]之基团:其中R1及R2彼此独立为氢原子,经取代或未取代之烷基或脂环烃基,及R1及R2可一起形成一个脂肪族环;R3为烷基,烷烯基,羟烷基,羟基氧基羰基或烷基甲矽烷基,或R为具有化学式[3]之基团:其中R4为烷基;及R1,R2及R3如上所界定,及R3及R4可一起形成一个含氧环,及Z为具有化学式[4]之基团:其中A2为具有一或多个氧原子之二价烃基;A1与A3彼此独立地为低级烷撑基;m为0或1;及p,q或r彼此独立地为0或1,但规定当m为1时,q为1。9.如申请专利范围第5项之聚合物,其为一种包含有具化学式[1a]之单体单元作为组份的同聚物。10.如申请专利范围第5项之聚合物,其一种包含有二或多种具化学式[1a]单体单元作为组份之共聚物。11.如申请专利范围第5项之聚合物,其为以一种包含有一或多种具化学式[1a]之单体单元以及一或多种具有化学式[1b]之单体单元作为组份的共聚物:其中R5',R6',R7'彼此独立地为氢原子,烷基,氰基,烷氧碳基或氨基甲醯;Z'为二价有机基团或直接键结;及R'为羟基烷基。12.如申请专利范围第5项之聚合物,其为以一种包含有一或多种具化学式[1a]单体单元之及一或多种具有化学式[6a]之单体单元作为组份单元之共聚物:其中R9为氢原子,低级烷基或卤素原子;R10为氢原子,低级烷基,卤素原子,羧基,烷氧羰基或甲醯基;R11为氢原子,低级烷基,羧基,烷氧羰基或卤素原子;R12为可具有一个双键或直接链之烷撑基;R13为氢原子,烷基,卤化烷基,芳基,脂肪族杂环基,芳香族杂环基,卤素原子,烷氧羰基,羟基烷氧羰基,芳基氧羰基,醯氧基,氰基,羧基,甲醯基,氨基,磺酸基,氨基甲醯基或羟基,及R10与R13可一起形成化学式:-CO-O-CO-或-CO-NH-CO-之基。13.如申请专利范围第1项之单体,其中该具有化学式[1]之单体系为为具有化学式[1]-1之基:其中Q为可具有一或多个氧原子之二价烃基;E为低级烷基;E1与E2彼此独立为氢原子,及E1与E2可一起形成一个脂肪族环,或为具有化学式[1]-2的单体:其中Q为可具有一或多个氧原子之二价烃基;G1为低级烷撑基;及E1与E2彼此独立为氢原子,及E1与E2可一起形成一个脂肪族环。14.如申请专利范围第1项之单体,其中该具有化学式[1]之单体系为具有化学式[1]-3之单体:其中X为烷基;E为低级烷基;及E1与E2彼此独立为氢原子;及E1与E2可一起形成一个脂肪族环,或为具有化学式[1]-4的单体:其中X为烷基;G1为低级烷撑基;t为自0至6之整数;及E1与E2彼此独立为氢原子,及E1与E2可一起形成一个脂肪族环。
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