发明名称 降压阀
摘要 一种降压阀。本发明之降压阀特别适用于例如研浆(slurry)之有害化学物质,且具特色在于利用隔膜承受适当液体与气体之压力时产生的变形量,将入口之高压流体转换成出口之低压流体。运用本发明之降压阀,可具有降低取样装置内之回路压力与维持稳定的流动、藉着由滴定装置取得准确的取样量以提高量测之精确度、藉由稳定的流动与低压以增加取样阀的寿命、能避免产生微粒之无金属制零件之设计、以及能避免研浆产生结晶之无死角设计等之优点。
申请公布号 TW494196 申请公布日期 2002.07.11
申请号 TW090130265 申请日期 2001.12.06
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 李汉忠
分类号 F16K17/00 主分类号 F16K17/00
代理机构 代理人 蔡坤财 台北巿松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种降压阀,适用于将具有一第一压力之一第一液体转换成为具有一第二压力之该第一液体且该第二压力约小于该第一压力,其中该降压阀至少包括:一外盒,具有将该外盒之一内部空间分隔成一第一空间与一第二空间且中央具有一锥形孔洞之一隔板、位于该隔板上且为环形之一支撑板、以及位于该第一空间底部且为环形之一隔膜座;一第一隔膜,系为环形且连接该隔板与该隔膜座;一第二隔膜,连接至该隔膜座之上缘,其中该第一空间被该第一隔膜与该第二隔膜分隔成位于该隔板、该第一隔膜、与该第二隔膜之一第三空间、位于该外盒与该第一隔膜间之一第四空间、以及位于该外盒与该第二隔膜间之一第五空间;一第三隔膜,连接至该支撑板之上缘,其中该第二空间被该支撑板与该第三隔膜分隔成位于该支撑板、该隔板、与该第三隔膜间之一第六空间,以及位于该外盒、该支撑板与该第三隔膜间并与该第四空间连通之一第七空间;一插栓,该插栓为锥形、位于该隔板之该锥形孔洞中、且连接该第二隔膜与该第三隔膜,其中该插栓与该隔板间具有一间隙;一入口,位于该隔板内且贯穿至该第三空间;一出口,位于该隔板内且贯穿至该第六空间,其中具有该第一压力之该第一液体自该入口流入后,依序流经该第三空间以及该第六空间,最后以该第二压力自该出口流出;一第二液体,位于该第四空间与该第七空间内;以及一气体,位于该第五空间内。2.如申请专利范围第1项所述之降压阀,其中该第一液体为研浆(slurry)。3.如申请专利范围第1项所述之降压阀,其中该第二液体为水。4.如申请专利范围第1项所述之降压阀,其中该气体为空气。5.如申请专利范围第1项所述之降压阀,其中该气体为氮气。6.一种降压阀,适用于将具有一第一压力之一第一液体转换成为具有一第二压力之该第一液体且该第二压力约小于该第一压力,其中该降压阀至少包括:一外盒,具有将该外盒之一内部空间分隔成一第一空间与一第二空间且中央具有一锥形孔洞之一隔板、位于该隔板上且为环形之一支撑板、以及位于该第一空间底部且为环形之一隔膜座;一第一隔膜,系为环形且连接该隔板与该隔膜座;一第二隔膜,连接至该隔膜座之上缘,其中该第一空间被该第一隔膜与该第二隔膜分隔成位于该隔板、该第一隔膜、与该第二隔膜间之一第三空间、位于该外盒与该第一隔膜间之一第四空间、以及位于该外盒与该第二隔膜间之一第五空间;一第三隔膜,连接至该支撑板之上缘,其中该第二空间被该支撑板与该第三隔膜分隔成位于该支撑板、该隔板、与该第三隔膜间之一第六空间,以及位于该外盒、该支撑板与该第三隔膜间并与该第四空间连通之一第七空间;一插栓,该插栓为锥形、位于该隔板之该锥形孔洞中、且连接该第二隔膜与该第三隔膜,其中该插栓与该隔板间具有一间隙;一入口,位于该隔板内且贯穿至该第三空间;以及一出口,位于该隔板内且贯穿至该第六空间,其中具有该第一压力之该第一液体自该入口流入后,依序流经该第三空间以及该第六空间,最后以该第二压力自该出口流出。7.如申请专利范围第6项所述之降压阀,其中该第一液体为研浆。8.如申请专利范围第6项所述之降压阀,其中更包括一第二液体,位于该第四空间与该第七空间内。9.如申请专利范围第8项所述之降压阀,其中该第二液体为水。10.如申请专利范围第6项所述之降压阀,其中更包括一气体,位于该第五空间内。11.如申请专利范围第10项所述之降压阀,其中该气体为空气。12.如申请专利范围第10项所述之降压阀,其中该气体为氮气。图式简单说明:第1A图系绘示习知研浆的滴定装置之示意图,其中取样六向阀旋转至某一角度,藉以使研浆样本如箭号所示流经各元件并充满取样管;第1B图系绘示习知研浆的滴定装置之示意图,其中取样六向阀由第1A图之状态顺时针旋转约60度,藉以使去离子水如箭号所示流经各元件并在取样管内与研浆样本混合;第2图系绘示本发明之一较佳实施例之降压阀之剖面图;第3图系绘示高压液体流进本发明之一较佳实施例之降压阀之剖面图;以及第4图系绘示本发明之一较佳实施例之降压阀安装在习知滴定装置之管路上之示意图。
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