| 主权项 |
1.一种缩小物镜,尤指用于超紫外线微石版印刷,包括四个面镜(M1,M2,M3,M4),其对一光轴呈同心圆设置,并在光程中排列成第一面镜、第二面镜、第三面镜、第四面镜,其中该缩小物镜具有一无障碍之光程且适用于环形场之扫瞄;其特征在于,该第一面镜(M1)为一凸面镜;以及该第二面镜(M2)具有一正角度放大率。2.根据申请专利范围第1项所述之缩小物镜,其中一光阑(B)设在一面镜上或接近一面镜,尤其是该第三面镜(M3)。3.根据申请专利范围第1或2项所述之缩小物镜,其中增设一或二掠入射镜(GIM)。4.根据申请专利范围第3项所述之缩小物镜,其中该掠入射镜(GIM)具有一非球面,系由一平面所导出。5.根据申请专利范围第3项所述之缩小物镜,其中至少一该掠入射镜(GIM)为一主动镜。6.根据申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜,其中该第二面镜(M2)与第四面镜(M4)为凹镜。7.根据申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜,其中该四个面镜(M1,M2,M3,M4)之形状及顺序为凸凹凸凹。8.根据申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜,其中该缩小物镜在物侧为远心(telecentric)。9.根据申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜,其中在物侧之一主光束(CR)系偏离该光轴(HA)。10.根据申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜,其中该缩小物镜在影像侧为远心(telecentric)。11.一种设有申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜的投影曝光设备,其特征在于,设置一反射遮蔽罩(reflection mask)排列于该缩小物镜之前。12.一种使用具备有影像测与物测之缩小物镜之投影曝光设备,包含下列之步骤:提供一反射遮蔽罩;以及提供四个面镜(M1,M2,M3,M4),其对一光轴呈同心圆设置,并在光程中排列成第一面镜、第二面镜、第三面镜、第四面镜,其中该第一面镜(M1)为一凸面镜以及该第二面镜(M2)具有一正角度放大率。13.一种设有申请专利范围第1或2项中所述之缩小物镜的投影曝光设备,其特征在于,设置一传输遮蔽罩(transmission mask)排列于该缩小物镜之前。14.一种使用具备有影像测与物测之缩小物镜之投影曝光设备,包含下列之步骤:提供一传输遮蔽罩;以及提供四个面镜(M1,M2,M3,M4),其对一光轴呈同心圆设置,并在光程中排列成第一面镜、第二面镜、第三面镜、第四面镜,其中该第一面镜(M1)为一凸面镜以及该第二面镜(M2)具有一正角度放大率。图式简单说明:图1系本发明所使用系统分类之示意图。图2系现行技术第一四镜系统之透镜截面图(e型系统)。图3系第二四镜系统之透镜截面图(f型系统)。图4系第三四镜系统之透镜截面图(g型系统)。图5系插置掠入射镜之f型四镜系统。 |
