CRITICAL DIMENSION VARIATION CORRECTION IN EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

摘要

극자외선(EUV) 포토리소그라피에서 임계 치수(CD) 변동을 정정하는 방법은, EUV 포토리소그라피 포토마스크를 포함하는 포토리소그라피 시스템에 의해 형성되는 웨이퍼 노광 필드의 CD 변동을 매핑하는 단계를 포함한다. 포토마스크의 반사성 다층의 구역에서 EUV 방사선의 동작 파장에서의 반사도 변화를 발생시키는 처리 파라미터를 결정하며, 반사도 변화는 매핑되는 CD 변동을 정정하도록 계산된다. 처리 빔을 구역에 보낸다. 이 구역은 결정되는 파라미터에 따라 빔으로 처리한다.