正型光阻组成物与倾斜布植步骤用薄膜光阻图型之形成方法

摘要

本发明之目的在提供，可形成高对比之薄膜光阻图型，抑制浮渣之产生，具良好延置安定性及耐热性之正型光阻组成物。该组成物含(A)有间甲酚系重复单元20莫耳%以上，酚式羟基之部份氢原子经1－乙氧基乙基取代之清漆树脂，(B)例如下式(1)之二叠氮化合物，以及(C)1，1－双(4－羟苯基)环己烷。091133395p01.bmp