发明名称 胶膜
摘要 本发明系提供一种胶膜,其安装于光罩时,不致损及光罩,且光罩及胶膜薄膜的平面不仅于水平方向,维持在垂直方向时亦可保持光罩平面性(flatness)。该胶膜系包含胶膜薄膜、支撑胶膜薄膜的胶膜框、及将胶膜安装于光罩之树脂层者,其特征为该树脂层系包含硬质树脂层与软质树脂层之组合。
申请公布号 TW535031 申请公布日期 2003.06.01
申请号 TW090132161 申请日期 2001.12.25
申请人 三井化学股份有限公司 发明人 津本高政;仓田洋行;中川广秋;藤田稔
分类号 G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种胶膜,系包含胶膜薄膜、支撑胶膜薄膜的胶膜框、及将胶膜安装于光罩之树脂层者,其特征为该树脂层系包含硬质树脂层与软质树脂层之组合。2.如申请专利范围第1项之胶膜,其中构成该树脂层之树脂中,硬质树脂层的硬度为170gf以上,软质树脂层的硬度为100gf以下。3.如申请专利范围第1或2项之胶膜,其中该树脂层系包含光罩黏合面之包含硬质树脂的薄层;及胶膜框黏合面之包含软质树脂的厚层之组合。4.如申请专利范围第3项之胶膜,其中该树脂层中,包含硬质树脂的层之厚度为树脂层整体厚度5~30%,包含该软质树脂的层之厚度为树脂层整体厚度95~70%。图式简单说明:第1图 图示本发明之胶膜的一树脂层构造剖面图。第2图 图示本发明之胶膜的其他树脂层构造剖面图。第3图 图示本发明之胶膜的其他树脂层构造剖面图。第4图 图示本发明之胶膜的其他树脂层构造剖面图。
地址 日本
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