发明名称 正型光阻组成物与光阻图型之形成方法
摘要 本发明系有关一种将具有由(甲基)丙烯酸酯所衍生之单位为主链,且受酸之作用可增大对硷溶解性之树脂成分(A)与,经由曝光可产生酸之酸产生剂成分(B),溶解于有机溶剂(C)所得之正型光阻组成物,其特征为,上记树脂成分(A),系为含有:含多环式基之酸解离性溶解抑制基之(甲基)丙烯酸酯所衍生之单位(a1)、含内酯之单环式基或多环式基之(甲基)丙烯酸酯所衍生之单位(a2)、含羟基之多环式基之(甲基)丙烯酸酯所衍生之单位(a3),与前述单位(a1)、(a2)与单位(a3)以外之含多环式基之(甲基)丙烯酸酯所衍生之单位(a4)之共聚合物。本发明之组成物,可提供一种具有优良之解像性,且可扩大独立光阻图型之焦点深度宽,与抑制邻接效果之增强化学性正型光阻组成物。
申请公布号 TW200300869 申请公布日期 2003.06.16
申请号 TW091134842 申请日期 2002.11.29
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 羽田英夫;藤村悟史;岩下淳
分类号 G03F7/038 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本