| 主权项 |
1.一种可挠性有机电子装置(10),其以所列之次序包含:(a)第一可挠性复合障壁结构(20),其包含至少一层(21A,21B)第一聚合膜及至少一层(22)第一障壁材料,第一障壁结构具有第一内表面(24);(b)至少一个第一电接触层(30);(c)至少一个包含有机活性材料之活性层(40),该活性层具有以长度及宽度界定之尺寸;(d)至少一个第二电接触层(50);(e)第二可挠性复合障壁结构(60),其包含至少一层(61A,61B)第二聚合膜及至少一层(62)第二障壁材料,第二障壁结构具有第二内表面(64);其中第一(20)及第二(60)复合障壁结构至少之一为透光性;其中第一(20)及第二(60)复合障壁结构密封在一起以封包至少一个活性层(40)。2.根据申请专利范围第1项之装置,其中一部份之第一电接触层及一部份之第二电接触层延伸超越活性层之尺寸,其中第一及第二复合障壁结构亦密封于第一及第二电接触层之延伸部份。3.根据申请专利范围第1项之装置,其中第一及第二复合障壁结构之第一及第二聚合膜选自聚烯烃、聚酯、聚醯亚胺、聚醯胺、聚丙烯与聚甲基丙烯;全氟化与部份氟化聚合物、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚胺基甲酸酯、聚丙烯树脂、环氧树脂、及酚醛清漆树脂。4.根据申请专利范围第1项之装置,其中第一及第二障壁材料独立地选自金属、金属合金、无机氧化物、无机氮化物、无机碳化物、无机氟化物、及其组合。5.根据申请专利范围第1项之装置,其中:第一可挠性复合障壁结构及第一电接触层为透光性;第一复合障壁材料中之第一及第二聚合膜选自聚对酸伸乙酯、聚酸伸乙酯、聚醯亚胺、及其组合。6.根据申请专利范围第1项之装置,其中障壁材料选自铝、镍、铬、铜、锡、不锈钢、其合金、无机氧化物、无机氮化物、无机氟化物、无机碳化物、及其组合。7.根据申请专利范围第1-6项任何一项之装置,其中活性层包括共轭聚合物。8.一种电发光显示器,其含根据申请专利范围第1-6项任何一项之装置。9.一种光侦检器,其含根据申请专利范围第1-6项任何一项或更多项之装置。10.一种改良可挠性有机电子装置之氧及湿气降解抗性之方法,此装置包含至少一个具有第一电接触层外表面与相对之第一电接触层内表面之第一电接触层,至少一个相邻第一电接触层内表面之活性层,此活性层包含有机活性材料,该活性层具有一组尺寸,及至少一个具有第二电接触层外表面与相对之第二电接触层内表面之第二电接触层,其中第二电接触层内表面相邻活性层,此方法包含步骤:相邻至少一个第一电接触层外表面安置第一可挠性复合障壁结构,此第一可挠性复合障壁结构包含至少一层第一聚合膜及至少一层第一障壁材料,第一障壁结构具有第一内表面;相邻至少一个第二电接触层外表面安置第二可挠性复合障壁结构,此第二可挠性复合障壁结构包含至少一层第二聚合膜及至少一层第二障壁材料,第二障壁结构具有第二内表面;其中第一及第二复合障壁结构至少之一为透光性,在活性层尺寸之外将第一内表面及第二内表面密封在一起以封包活性层;因而得到根据申请专利范围第1-6项任何一项或更多项之装置。图式简单说明:图1为本发明有机电子装置之上视图之略示图。图2为图1之装置在装置密封前在线2-2之横切面略示图。图3为图2所示之装置在线3-3之上视图之略示图。图4为图1之装置在密封后在线2-2之横切面略示图。图5为在将密封于聚合撑体上之电极图案之本发明复合障壁结构剥离时,剥除强度相对距离之图。图6为自撑体及电极材料剥除复合障壁结构之略示图。图7(a)为本发明之聚合物发光装置在起始时间及在周围储存50日后之发光图。图7(b)为无本发明障壁结构之聚合物发光装置在起始时间及在周围储存50日后之发光图。 |
