发明名称 |
OPTIMIZATION OF TARGET ARRANGEMENT AND ASSOCIATED TARGET |
摘要 |
타겟 배열을 계획하는 방법 및 연계된 타겟 및 레티클이 개시된다. 타겟은 복수의 격자들을 포함하고, 각각의 타겟은 복수의 서브구조체들을 포함한다. 상기 방법은 타겟 영역을 정의하는 단계; 격자들을 형성하기 위해 타겟 영역 내에 서브구조체들을 위치시키는 단계; 및 격자들의 둘레에 어시스트 피처들을 위치시키는 단계를 포함하고, 어시스트 피처들은 격자들의 둘레에서 측정된 세기 피크들을 감소시키도록 구성된다. 상기 방법은 메트롤로지 공정을 이용하여 타겟의 검사에 의해 얻어지는 결과적인 이미지를 모델링하는 단계; 및 타겟 배열이 메트롤로지 공정을 이용하는 검출에 대해 최적화되는지를 평가하는 단계를 포함한다. |
申请公布号 |
KR20160124843(A) |
申请公布日期 |
2016.10.28 |
申请号 |
KR20167025790 |
申请日期 |
2015.01.29 |
申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VAN BUEL HENRICUS WILHELMUS MARIA;BELTMAN JOHANNES MARCUS MARIA;LIU XING LAN;SMILDE HENDRIK JAN HIDDE;VAN HAREN RICHARD JOHANNES FRANCISCUS |
分类号 |
G03F7/20;G01N21/93;G01N21/956 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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