发明名称 遮蔽涂装物件美工线的冶具结构
摘要 一种遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,其利用冶具的延伸端以及延伸端前的遮蔽件导入于涂装物件之美工线槽内,而形成以下共同特征:(1)冶具的延伸端厚度等于或小于冶具本身;(2)延伸端前的遮蔽件端面必为斜面或圆弧面;(3)冶具与延伸端的底面绝不与物件顶面接触;(4)延伸端前的遮蔽件尽可能不与浅沟内壁接触;据此可避免冶具与物件产生隙缝,以防止喷液渗入美工线槽内。五、(一)、本案代表图为:第六图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:2:物件 3:冶具 31:延伸端32:遮蔽件 33:端面 34:底面
申请公布号 TW553022 申请公布日期 2003.09.11
申请号 TW091218319 申请日期 2002.11.14
申请人 史大卫 发明人 史大卫
分类号 B05B15/04 主分类号 B05B15/04
代理机构 代理人 杨延寿 台北市南港区忠孝东路六段三十二巷三号七楼
主权项 1.一种遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,其利用冶具的延伸端以及延伸端前的遮蔽件导入于涂装物件之美工线槽内,而形成以下共同特征:(1)冶具的延伸端厚度等于或小于冶具本身;(2)延伸端前的遮蔽件端面必为斜面或圆弧面;(3)冶具与延伸端的底面绝不与物件顶面接触;(4)延伸端前的遮蔽件尽可能不与浅沟内壁接触;据此,可避免冶具与物件产生隙缝,以防止喷液渗入美工线槽内。2.如申请专利范围第1项所述之遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,当物件之美工线槽两侧顶面为水平面时,延伸端的遮蔽件前端与底端分别为前平面、底平面,其中前平面能与线槽之外壁垂面呈面性接触,底平面能与浅沟之底面呈面性接触。3.如申请专利范围第1项所述之遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,当物件为缩水性大的物件时,美工线槽两侧顶面若为水平面,遮蔽件之前端与底端分别为前平面、底平面,且在前平面的上端延伸出挡块,此挡块并与物件顶面保持适当间距。4.如申请专利范围第1项所述之遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,当物件之线槽两侧顶面为水平面,但外壁顶面高于内壁顶面时,遮蔽件的底端须为底平面,此底平面并与线槽之底面呈面性接触,又前缘并与线槽外壁下的垂角呈线性顶抵。5.如申请专利范围第1项所述之遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,当物件之线槽的深度较浅时,遮蔽件的底面为平底面,其平底面的前部贴于外壁上端的水平顶面,且接触宽距在0.05~0.5mm。6.如申请专利范围第1项所述之遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,当物件之线槽内侧顶面为水平面,外侧顶面为圆弧面时,遮蔽件的端面改为斜面,底面为平底面,且前端具有一小斜面与前述斜面交接而形成棱线,藉由棱线与圆弧面可产生线性接触。7.如申请专利范围第1项所述之遮蔽涂装物件美工线的冶具结构,当物件之线槽外侧顶面为水平面,内侧顶面为圆弧面时,遮蔽件的端面为圆弧面,底面为平底面并与线槽之平底面呈面性接触,又前缘与线槽外壁下的垂角顶抵接触。图式简单说明:第一图:习式冶具遮蔽物件之第一态样示意图。第二图:习式冶具遮蔽物件之第二态样示意图。第三图:习式冶具遮蔽物件之第三态样示意图。第四图:习式冶具遮蔽物件之第四态样示意图。第五图:本创作冶具设在模架上之立体构造图。第六图:本创作冶具遮蔽物件之第一态样示意图。第六A图:为第六图冶具之遮蔽件放大图。第七图:本创作冶具遮蔽物件之第二态样示意图。第七A图:为第七图冶具之遮蔽件放大图。第八图:本创作冶具遮蔽物件之第三态样示意图。第八A图:为第八图冶具之遮蔽件放大图。第九图:本创作冶具遮蔽物件之第四态样示意图。第九A图:为第九图冶具之遮蔽件放大图。第十图:本创作冶具遮蔽物件之第五态样示意图。第十A图:为第十图冶具之遮蔽件放大图。第十一图:本创作冶具遮蔽物件之第六态样示意图。第十一A图:为第十一图冶具之遮蔽件放大图。
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