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发明名称
曝光方法及装罝
摘要
本发明之目的,系在于将用以支持遮罩以及感光材所需之空间更为缩小者。本发明之曝光方法包括:使来自曝光用光源之光之至少一部分,入射至支持于支持装置之前述遮罩之入射步骤;以及引导来自前述遮罩之反射光,使其成像在支持于前述支持装置之前述感光材,俾从与光源之光入射于前述遮罩之入射方向不同的方向接收该反射光之成像步骤。
申请公布号
TW200304166
申请公布日期
2003.09.16
申请号
TW092100849
申请日期
2003.01.16
申请人
液晶先端技术开发中心股份有限公司
发明人
川晋;谷口幸夫;山口弘高;松村正清
分类号
H01L21/027
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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