保护沸水式反应器之主系统组件使特别不受应力之撕裂侵蚀所用之方法

摘要

本发明涉及一种保护沸水式反应器之主系统组件使特别不受应力之撕裂侵蚀所用之方法，主冷却剂中馈入一种在主系统之条件下可氧化之醇类，组件之表面是空着的或只涂布特定之氧化物层，在主冷却剂中馈入一种还原剂，为了使具氧化作用之物质之浓度降低或使该以氧化物层所涂布之组件表面之电化学电位偏移至负值，则本发明之设计方式是：一种在反应器之条件下可氧化之醇类(较佳是液体形式)馈入该主冷却剂中作为还原剂，其中组件表面是空着的(blank)或只涂布特定之氧化物层。

主权项

1.一种保护沸水式反应器之主系统组件使特别不受应力之撕裂侵蚀所用之方法,主冷却剂中馈入一种在主系统之条件下可氧化之醇类,其特征为:组件之表面是空着的或只涂布特定之氧化物层。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该主冷却剂中乙醇之浓度调整至0.1至300mol/kg之値。3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中醇类馈入冷凝液系统中或给水系统中且利用该给水(feed-water)而供应至主系统中。4.如申请专利范围第1或2项之方法,其中醇类由甲醇,乙醇及丙醇所形成之组中选取。5.如申请专利范围第3项之方法,其中醇类由甲醇,乙醇及丙醇所形成之组中选取。图式简单说明:第1图 沸水式反应器之纵切面。第2图 在出现CH3OH或氢作为还原剂时CrNi钢及Pt之电位。