| 摘要 |
提供一种即使发生控制上时间浪费，亦能以高精度进行曝光装置内之温度控制，使曝光装置之性能安定而保持期望之性能，进而能提升元件之制造效率的曝光装置及曝光方法，以及使用该曝光装置及曝光方法的元件制造方法。标线片载台2及晶圆载台5上，分别设有用以调整因线性马达之驱动而变化之温度的循环系统C5，C6，控制器77驱动加热器75，78以设定在循环系统C5，C6中循环之冷媒的温度。于投影光学系统PL设有循环系统C1，控制器67驱动加热器71以设定在循环系统C1中循环之冷媒的温度。控制器67，77，系以前馈控制来分别驱动加热器71及加热器75，78，以控制各循环系统中循环之冷媒。 |
