| 摘要 |
本发明之光阻用聚合物化合物之制法，系一种包含有可对应由：含有内酯骨架之单量体(a)、利用酸解析而含硷可溶性基之单量体(b)、以及含具羟基之脂环式骨架之单量体(c)中所选出之至少一种单量体之反覆单位之光阻用聚合物化合物的制造方法，其特征系包含：(i)将包含由前述单量体(a)、(b)以及(c)所选出之至少一种单量体之单量体混合物聚合之聚合步骤(A)，以及将聚合所产生之聚合物，置于利用有机溶媒与水之抽出操作中，而将所产生之聚合物分配于有机溶媒层，而形成杂质之金属成分分配于水层之萃取步骤(B)，或是(ii)：使包含具有可对应由前述单量体(a)、(b)以及(c)中所选出之至少一种之单量体之反覆单位之聚合物，且金属含量系对前述聚合物为1000重量ppb之聚合物溶液，通过由具有阳离子交换基之多孔质聚烯膜所构成之过滤器之通液步骤(I)。藉由上述制法，即可有效地获得含极少量之金属成分等杂质之光阻用聚合物化合物。 |
