形成光阻图案之方法

摘要

一种形成光阻图案的方法，该方法能有效控制光阻图案之再流动制程的变化量与形态，即使再流动制程的变化量异常增加，仍可获得所需的光阻图案并具有所需的精确度。在第一层之上形成第二层，之后在第二层之上形成第一光阻图案，并以第一光阻图案做为遮罩对第二层进行选择性蚀刻。其后，调整第二或第一层之暴露表面中至少其一表面的可湿性，如此形成一可湿性被调整部分。以有机溶剂使第一光阻图案产生再流动，第一光阻图案因而改变，结果在第二层之上形成第二光阻图案以用于选择性蚀刻。