发明名称 像形成状态调整系统、曝光方法及曝光装置、以及资讯记录媒体
摘要 第2通讯伺服器(930),透过第1通讯伺服器(920)来取得基准之曝光条件下,曝光装置(9221~9223)所具备之调整装置之调整资讯以及关于投影光学系统成像性能(例如波面像差)之资讯,根据该资讯算出目标曝光条件下调整装置之最佳调整量。又,第2通讯伺服器,透过第1通讯伺服器(920)来取得目标曝光条件下,调整装置之调整资讯以及投影光学系统成像性能之实测资料,根据该资讯算出目标曝光条件下调整装置之最佳调整量。然后,第2通讯伺服器,分别根据算出结果,透过第1通讯伺服器(920)来控制曝光装置之调整装置。
申请公布号 TW200401961 申请公布日期 2004.02.01
申请号 TW092101981 申请日期 2003.01.29
申请人 尼康股份有限公司 发明人 清水康男;蛭川茂;铃木广介;松山知行
分类号 G03F9/00 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本