| 主权项 |
1.一种由锡磷氟氧化物玻璃所构成之装置,其暴露于波长短于玻璃吸附边限之光线历时一段将使玻璃之折射率改变大于0.0004之时间,其中该锡磷氟氧化物玻璃组成份以原料之元素重量百分比为计算基准包含20-85%Sn,2-20%P,3-20%O,9-36%F,以及Sn+P+O+F总量至少为60%。2.依据申请专利范围第1项之装置,其中锡磷氟氧化物玻璃组成份以原料之元素重量百分比为计算基准,包含20-60%Sn,9-20%P,10-20%O,9-20%F,以及Sn+P+O+F总量至少为60%。3.依据申请专利范围第2项之装置,其中锡磷氟氧化物玻璃组成份以原料之元素重量百分比为计算基准,包含20-60%Sn,2-20%P,10-20%O,9-20%F,总量0-40%之阳离子改善剂,其由12%Pb,高达12%Zr,高达5%Ca,高达8%Ba,高达5%Zn,高达30%Tl,高达7%Nb,高达5%Ga,高达5%Hg,总量高达4%硷金属种类选取出,以及总量高达20%总阴离子改善剂,其由Cl,Br以及I种类中选取出。4.依据申请专利范围第2项之装置,其中光线波长小于350nm。5.依据申请专利范围第4项之装置,其中装置包含光学波导区域。6.依据申请专利范围第4项之装置,其中装置包含绕射光栅。7.依据申请专利范围第6项之装置,其中装置为平面形式。8.依据申请专利范围第6项之装置,其中装置为纤维形式。9.依据申请专利范围第2项之装置,其中更进一步包含光学非线性有机色素掺杂剂以及可调整之周期性光栅构造,其调整决定于入射光线强度。10.一种制造光学装置之方法,其包含下列步骤:a)将锡磷氟氧化物玻璃组成份融熔于温度小于450℃及高于140℃,该锡磷氟氧化物玻璃组成份以原料之元素重量百分比为计算基准包含20-85%Sn,2-20%P,3-20%O,9-36%F,以及Sn+P+O+F总量至少为60%;以及b)将该锡磷氟氧化物玻璃暴露于波长短于玻璃吸附边限之光线历时一段将使玻璃之折射率改变大于0.0004之时间。11.依据申请专利范围第10之方法,其中融熔于温度为小于400℃。12.依据申请专利范围第11之方法,其中锡磷氟氧化物玻璃组成份以原料之元素重量百分比为计算基准,包含20-85%Sn,2-20%P,3-20%O,9-36%F,以及Sn+P+O+F总量至少为60%。13.依据申请专利范围第12之方法,其中锡磷氟氧化物玻璃组成份以原料之元素重量百分比为计算基准,包含20-60%Sn,2-20%P,10-20%O,9-20%F,总量0-40%之阳离子改善剂,其由12%Pb,高达12%Zr,高达5%Ca,高达8%Ba,高达5%Zn,高达30%Tl,高达7%Nb,高达5%Ga,高达5%Hg,总量高达4%硷金属种类选取出,以及总量高达20%总阴离子改善剂,其由Cl,Br以及I种类中选取出。14.依据申请专利范围第12之方法,其中光线波长小于350nm。15.依据申请专利范围第11之方法,其中更进一步包含将玻璃暴露于光学干涉图案之步骤。16.依据申请专利范围第11之方法,其中更进一步包含选择性地遮盖玻璃以在玻璃中产生周期性图案之步骤。17.依据申请专利范围第11之方法,其中更进一步包含形成包含心蕊及包层光学波导构造之步骤。18.依据申请专利范围第17之方法,其中更进一步包含将玻璃形成为光纤之步骤。 |
