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1.一种光阻的硬化方法,属于对于形成有图案并经显像的光阻,在加热下照射紫外线使光阻硬化的光阻的硬化方法,其特征为:将设有上述光阻的工件依次搬运至较高温度的领域,并将工件温度一面局部地且阶段地上昇,一面将紫外线照射在上述紫外线,使上述光阻硬化。2.一种光阻硬化装置,属于对于形成有图案并经显像的光阻,在加热下照射紫外线使光阻硬化的光阻硬化装置,其特征为具备:对于设有上述光阻的工件,照射紫外线的光源部,及载置有上述工件,且被分割成小于上述工件的面积的复数领域,而各领域被保持在不同温度的工件台,及在上述工件台上搬运上述工件的搬运手段,及一面照射紫外线,一面藉由上述搬运手段,在工件台上,将工件局部地依次移动至上述工件台的各领域,而将工件的温度局部地且阶段地上昇的控制部。3.如申请专利范围第2项所述的光阻硬化装置,其中,在上述工件台,位于靠温度最高领域的工件搬运方向的下游侧,设置温度低的领域;将完成紫外线照射的工件依次搬运至设在上述下游侧的温度低的领域,俾局部地冷却工件。4.如申请专利范围第2项或第3项所述的光阻硬化装置,其中,上述工件是显示用基板。图式简单说明:第1图是表示本发明的实施例的光阻硬化装置的整体构成图。第2(a)至(d)图是表示说明本发明的实施例的光阻硬化顺序的图式(1);第2(a)图是表示工件被搬进处理室内的图式;第2(b)图是表示仅工件A被载置在台ST1的图式;第2(c)图是表示工件A被载置在台ST2,工件B被载置在台ST1的图式;第2(d)图是表示工件A被载置在台ST3,工件B被载置在台ST2,工件C被载置在台ST1的图式。第3(e)至(h)图是表示说明本发明的实施例的光阻硬化顺序的图式(2);第3(e)图是表示工件A被载置在台ST4,工件B被载置在台ST3,工件C被载置在台ST2的图式;第3(f)图是表示工件B被载置在台ST4,工件C被载置在台ST3的图式;第3(g)图是表示工件C被载置在台ST4的图式;第3(f)图是表示工件从工件台被除掉的图式。第4(a)至(c)图是表示说明本发明的实施例的工件搬运机构的动作的图式(1);第4(a)图是表示被搬进处理室内的工件,被载置在工件搬运臂的图式;第4(b)图是表示工件搬运臂将工件移动至工件台的台ST1上的图式;第4(c)图是表示工件搬运臂下降的图式。第5(d)至(f)图是表示说明本发明的实施例的工件搬运机构的动作的图式(2);第5(d)图是表示工件搬运臂上昇的图式;第5(e)图是表示工件搬运臂搬运成使工件A载置在台ST2,工件B载置在台ST1的图式;第5(f)图是表示工件搬运臂下降的图式。第6图是表示从光源方向观看本发明的实施例的工件台的图式。第7图是表示使用于习知的光阻硬化装置的工件台的整体立体图。第8图是表示图示于第7图的工件台的侧视图。 |
