光学用反射防止膜及其成膜方法

摘要

本发明系在丙烯酸树脂基材上形成与该丙烯酸树脂之折射率大致相同、膜厚仅约200nm之SiO膜，再于其上形成折射率在1.48～1.62范围内、膜厚仅约200nm之SiO膜。再者，例如在HLHL型之反射防止膜之情形中，由最外层算起位在第2层之TiO2膜以特殊之离子电镀装置成膜，而形成折射率在2.2～2.4之范围内之TiO2膜。