形成半导体元件之图案的方法

摘要

〔课题〕提供一种形成半导体元件之图案的方法，于半导体元件之光阻图案之形成过程中，藉由对反射防止膜进行蚀刻形成细微之弯曲，而可以增加光阻及反射防止膜间之接触面积，防止光阻图案崩落现象的产生。〔解决手段〕包括：(a)涂布有机反射防止膜组成物于被蚀刻层之上部，再进行烘烤而形成有机反射防止膜；(b)对上述所形成之有机反射防止膜进行蚀刻步骤，而形成细微之弯曲于有机反射防止膜上；及(c)涂布光阻于上述有机反射防止膜上，于曝光后显像，而形成光阻图案。