流体喷射头

摘要

本发明揭露一流体喷出头，其中该流体喷出头包括配置在一基底层上的一喷孔层。该流体喷出头包括形成在其上的第一组流体喷出孔以及第二组流体喷出孔，其中第一组流体喷出孔以及第二组流体喷出孔构形成可喷出两种不同的流体，以及形成在流体喷出头上的一长形凹槽，其中该凹槽定位在第一组流体喷出孔及第二组流体喷出孔之间，其位置足以阻止来自第一组流体喷出孔之流体与来自第二组流体喷出孔之流体间的交互污染。