发明名称 电解电容器电极用铝材料之制造方法,电解电容器电极用铝材料,以及电解电容器用电极材料之制造方法
摘要 本发明系有关,依序对铝板进行热压延、冷压延、最终退火以制造电解电容器电极用铝材料时,热压延以后之步骤中,包含铝材料接触加热体之加热步骤。又,铝材料接触加热体之加热步骤可于热压延后进行,或于冷压延开始至结束途中之步骤中至少进行1次,或于冷压延后最终退火前进行,或最终退火后进行。
申请公布号 TWI222090 申请公布日期 2004.10.11
申请号 TW091117417 申请日期 2002.08.02
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 西森秀树;山口知典;加藤豊;口雅司;儿玉和宏;穗积敏
分类号 H01G9/04 主分类号 H01G9/04
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种电解电容器电极用铝材料之制造方法,其为依序对铝板进行热压延,冷压延及最终退火以制造电解电容器电极用铝材料时,于热压延以后至冷压延结束途中,冷压延结束以后至最终退火途中,最终退火结束以后之至少任何一步骤中,包含将铝材料与加热体之接触加热步骤。2.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于开始冷压延至结束途中之步骤中,至少进行1次铝材料与加热体之接触加热步骤。3.如申请专利范围第2项之制造方法,其中,冷压延途中至少进行1次接触加热后,以最终接触加热后压延再开前之铝材料厚度为A(m),以全部冷压延结束后之铝材料厚度为B(m)时,{(A/B)/A}100(%)所示的接触加热后压延加工率为60%以下。4.如申请专利范围第3项之制造方法,其中,接触加热后压延加工率为30%以下。5.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于冷压延后最终退火前进行铝材料与加热体之接触加热步骤。6.如申请专利范围第5项之制造方法,其中,接触加热体之前或之后中至少任一阶段中,含有洗净铝材料之步骤。7.如申请专利范围第5项之制造方法,其系于接触加热体之前洗净铝材料,接着于乾燥或不乾燥之情形下,将铝材料接触加热体而加热。8.如申请专利范围第5项之制造方法,其系于接触加热体后将铝材料洗净,接着于乾燥或不乾燥之情形下进行退火。9.如申请专利范围第5至8项中任何一项之制造方法,其中,洗净用洗净液为有机溶剂。10.如申请专利范围第9项之制造方法,其中有机溶剂为CnH2n+1OH(n=1至10之自然数)所示之醇,环己醇(C6H11OH),1,2-乙二醇(HOCH2CH2OH),1,2-丙二醇(CH3CH(OH)CH2OH),1,3-丙二醇(HOCH2CH2CH2OH),CnH2n+2(n=5至15之自然数)所示之链烷系烃,环己烷,R1COR2(R1及R2:脂肪族烃基,R1及R2之合计碳数为8以下)所示之酮,环己酮(C6H10O),R1-O-R2(R1及R2:脂肪族烃基,R1及R2之合计碳数为8以下)所示之醚,2-甲氧基乙醇(CH3 OCH2CH2OH),2-乙氧基乙醇(CH3CH2OCH2CH2OH),2-丁氧基乙醇(CH3CH2CH2CH2OCH2 CH2OH),2-(2-乙氧基)乙氧基乙醇(CH3CH2OCH2CH2OCH2CH2OH),CH3COOR(R:碳数1至5之脂族烃基)所示之乙酸酯,甲苯二甲苯中所选出1种或2以上混合物。11.如申请专利范围第5至8项中任何一项之制造方法,其中洗净用洗净液为于水中添加表面活性剂之物。12.如申请专利范围第11项之制造方法,其中,表面活性剂为R-OSO3Na(R:碳数8至18之饱和烃基或有一个双键之不饱和烃基)所示之阴离子表面活性剂(硫酸酯盐);R-SO3Na(R:碳数8至18之饱和烃基或具有一个双键之不饱和烃基)或R-SO3Na(R:烷基为碳数8至14之饱和烃基或具有一个双键之不饱和烃基的烷基基)所示之阴离子表面活性剂(磺酸盐);R-N+(CH3)3Cl-(R:碳数8至16之饱和烃基)所示之阳离子表面活性剂(4级铵盐);R-O-(-CH2CH2O)nH(R:碳数8至16之饱和烃基或具有一个双键之不饱和烃基,n=6至14)或R-O-(-CH2CH2O)nH(R:烷基为碳数8至12之饱和烃基或具有一个双键之不饱和烃基的烷基苯基,n=6至14)所示之聚乙二醇型非离子表面活性剂中所选出1种或复数阴离子表面活性剂之混合物,复数阳极离子表面活性剂之混合物,复数非离子表面活性剂之混合物,1种以上阴离子表面活性剂及1种以上非离子表面活性剂之混合物,1种以上阳离子表面活性剂及1种以上非离子表面活性剂之混合物。13.如申请专利范围第7项之制造方法,其中洗净后之乾燥温度为200℃以下。14.如申请专利范围第7或8项之制造方法,其中洗净后之乾燥温度为90℃以下。15.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于冷压延后以能溶解铝材料之溶液洗净铝材料后,于最终退火前进行铝材料与加热体之接触加热步骤。16.如申请专利范围第15项之制造方法,其中利用能溶解铝之溶液的洗净为硷洗净。17.如申请专利范围第15项制造方法,其中利用能溶解铝之溶液的洗净为酸洗净。18.如申请专利范围第15项之制造方法,其中利用能溶解铝之溶液的洗净为依序进行硷洗净及酸洗净。19.如申请专利范围第15至18项中任何一项之制造方法,其系于对铝材料硷洗净或酸洗净之前,进行有机溶剂洗净。20.如申请专利范围第16或18项之制造方法,其中硷洗净用硷洗净液为含氢氧化钠,氢氧化钾,氢氧化钙,原矽酸钠,矽酸钠,磷酸三钠中所选出1种或2种以上之硷的水溶液。21.如申请专利范围第19项之制造方法,其中硷洗净用硷洗净液为含氢氧化钠,氢氧化钾,氢氧化钙,原矽酸钠,矽酸钠,磷酸三钠中所选出1种或2种以上之硷的水溶液。22.如申请专利范围第17或18项之制造方法,其中酸洗净用酸洗净液为含盐酸,硫酸,硝酸,磷酸中所选出1种或2种以上之酸的水溶液。23.如申请专利范围第19项之制造方法,其中酸洗净用酸洗净液为含盐酸,硫酸,硝酸,磷酸中所选出1种或2种以上之酸的水溶液。24.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于最终退火后,进行铝材料与加热体之接触加热步骤。25.如申请专利范围第1项之制造方法,其中,加热体之表面温度为50至在450℃,铝材料与加热体之接触时间为0.001至60秒。26.如申请专利范围第25项之制造方法,其中加热体之表面温度为60至400℃。27.如申请专利范围第25项之制造方法,其中加热体之表面温度为80至400℃。28.如申请专利范围第1项之制造方法,其中,铝材料与加热体之接触时间为0.001至60秒。29.如申请专利范围第28项之制造方法,其中,铝材料与加热体之接触时间为0.001至30秒。30.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于冷压延途中之步骤中进行中间退火。31.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于不活性气体中以铝实体温度450至600℃进行最终退火。32.如申请专利范围第1项之制造方法,其中加热体为热滚轴。33.如申请专利范围第1项之制造方法,其系于接触加热体后,将铝材料冷却。34.如申请专利范围第33项之制造方法,其中将铝材料冷却之方法为,接触冷却滚轴。35.如申请专利范围第1项之制造方法,其中铝材料之铝纯度为99.9%以上。36.一种电解电容器用铝材料,其特征为由如申请专利范围第1至35项中任一项之制造方法制得。37.一种铝电解电容器,其为具有阳极电极材料与阴极电极材料之铝电解电容器,其特征为,前述阳极电极材料与阴极电极材料中之任一者,为使用申请专利范围第36项之电解电容器用铝材料。
地址 日本