发明名称 偏向磁场型真空电弧蒸镀装置
摘要 偏向磁场型真空电弧蒸镀装置系具备蒸镀单元(UN1、UN2),那些单元系包含蒸镀源(3、3′)、和附设磁场形成线圈(400、42、42′)的弯曲过滤导管(4、4′)。导管(4、4′)系共通形成面临被成膜物品支撑夹具(2)的导管顶部40,在各导管的相反侧顶部(41、41′)设置蒸镀源(3、3′)。于导管顶部(40)设置共通的线圈(400),同时于各导管设置另一个的磁场形成线圈(42、42′)。设置着对各线圈设置状态的调整装置(马达m1、m2及驱动装置PC、马达M1、M2及驱动装置PC1、马达M1′、M2′及驱动装置PC1′)。此蒸镀装置系于被成膜物体上可生产性良好的形成所希望构造的良质的薄膜。
申请公布号 TW200500481 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW093116752 申请日期 2004.06.10
申请人 日新电机股份有限公司 发明人 村上泰夫;三上隆司
分类号 C23C14/24 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本