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发明名称
抗散射衰减结构及其制作方法
摘要
本发明提供一种抗散射衰减结构,适用于避免高能粒子辐射进入积体电路元件。上述抗散射衰减结构包括一具有积体电路元件之半导体基底,其中半导体基底区分成一粒子辐射区域与一非粒子辐射区域。以及一具有阻障结构之层间介电层,形成于该半导体基底上,其中阻障结构位于粒子辐射区域与非粒子辐射区域间,用于阻绝在粒子辐照时,粒子散射进入非粒子辐射区域。
申请公布号
TW200512923
申请公布日期
2005.04.01
申请号
TW092125432
申请日期
2003.09.16
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
林文钦;邓端理;王昭雄
分类号
H01L23/552
主分类号
H01L23/552
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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