发明名称 抗散射衰减结构及其制作方法
摘要 本发明提供一种抗散射衰减结构,适用于避免高能粒子辐射进入积体电路元件。上述抗散射衰减结构包括一具有积体电路元件之半导体基底,其中半导体基底区分成一粒子辐射区域与一非粒子辐射区域。以及一具有阻障结构之层间介电层,形成于该半导体基底上,其中阻障结构位于粒子辐射区域与非粒子辐射区域间,用于阻绝在粒子辐照时,粒子散射进入非粒子辐射区域。
申请公布号 TW200512923 申请公布日期 2005.04.01
申请号 TW092125432 申请日期 2003.09.16
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 林文钦;邓端理;王昭雄
分类号 H01L23/552 主分类号 H01L23/552
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号