发明名称 Method of forming a metal line in a semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100483595(B1) 申请公布日期 2005.04.18
申请号 KR20020085500 申请日期 2002.12.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
地址