发明名称 线性导轨循环装置
摘要 本创作系有关一种线性导轨循环装置,该循环装置主要系关于滚珠未负荷区回流转向部份之组件。其特征在于:循环装置呈J形,其间设有一回流通道供滚珠转向回流,而回流通道中设有两列相对之凹槽;其中循环装置系以凹槽为接合面切分为外回流半管及内回流半管两部分。因此本创作无须许多配件各别组装可减少配件组装时间,且使滚珠可稳定滚动于回流通道中不受循环装置之结构切分线组合的影响。
申请公布号 TWM264395 申请公布日期 2005.05.11
申请号 TW093217131 申请日期 2004.10.27
申请人 上银科技股份有限公司 发明人 王靖霈;蔡炯辉
分类号 F16C29/06 主分类号 F16C29/06
代理机构 代理人
主权项 1.一种线性导轨循环装置,该线性导轨包含有:轨条,系一长形构件,其上设有数条滚动沟;滑块,套合于上述轨条上,其上设有对应于上述轨条之滚动沟之负荷滚动沟、回流通孔及循环装置,滚珠滚动于其中,使滑块可相对于上述之轨条沿轨条之长轴方向移动;其特征在于:上述之循环装置呈J形,一端设置于上述滑块之回流通孔中另一端则连接上述负荷滚动沟,其间设有一回流通道供滚珠转向回流,而该回流通道中设有两列相对之凹槽;其中上述循环装置系以上述凹槽为接合面切分为外回流半管及内回流半管两部分。2.如申请专利范围第1项之线性导轨循环装置,其中凹槽设于外回流半管,使外回流半管之外表面超过180度圆周。3.如申请专利范围第1项之线性导轨循环装置,其中凹槽设于内回流半管,使内回流半管之外表面超过180度圆周。4.如申请专利范围第1项之线性导轨循环装置,其中凹槽分别设于外回流半管及内回流半管,由外回流半管及内回流半管共同组合成一完整之凹槽。5.如申请专利范围第1项之线性导轨循环装置,其中外回流半管及内回流半管外表面设有凸肋。6.如申请专利范围第1项之线性导轨循环装置,其中内回流半管与上述滑块负荷滚动沟配合之一端设有定位凸缘,使循环装置更稳固准确嵌合于滑块上。7.如申请专利范围第1项之线性导轨循环装置,其中循环装置在上述滑块之回流通孔内之一端设有定位销及定位槽,使两循环装置在回流通孔内组合时得着定位。图式简单说明:第一图系本创作线性导轨之滑块组合立体示意图第二图系第一图之循环装置示意图第三图系第二图之右侧端视图第四图系第一图之两循环装置爆炸图第五图系第四图之外回流半管细部图第六图系第四图之内回流半管细部图第七图系本创作滑块与循环装置组合部分剖面示意图第八图系本创作循环装置另一实施例之示意图第九图系第八图之右侧视图第十图系本创作回流通道之凹槽各种组合型态配合图
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