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一种可用于形成光阻剂层在i-线(365毫微米)之组合物，包含(a)薄膜形成树脂；(b)由下式表示之化合物093115392-p01.bmp其中R1为C1-20烷基、C6-20芳基或C6-20芳烷基，该C1-20烷基、C6-20芳基或C6-20芳烷基为未经取代或经一个或多个选自卤素、C1-20烷基、C1-8过氟烷基、C1-20烷氧基、氰基、羟基或硝基之群所取代；R2及R3各独立选自氢、C1-8烷基、C1-8过氟烷基、C1-8烷氧基、硝基、卤素、羧基、羟基及硫酸酯；m及n各独立为0或正整数；及X^-为酸之非亲核阴离子；(C)视需要而定，调整光学、机械及薄膜形成性质之添加剂；(d)视需要而定，硷或辐射灵敏性硷；及(e)溶剂。093115392-p01.bmp |
