| 摘要 |
본 발명은, 가스를 주기적으로 전환하면서 플라즈마 처리를 행하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 안정성이 좋으면서 형상 제어성이 높은 플라즈마 에칭을 행할 수 있는 플라즈마 처리 장치를 제공한다. 본 발명은, 시료가 플라즈마 처리되는 처리실과, 상기 처리실 내에 플라즈마를 생성시키기 위한 고주파 전력을 공급하는 제 1 고주파 전원과, 상기 시료가 재치되는 시료대와, 상기 시료대에 고주파 전력을 공급하는 제 2 고주파 전원과, 상기 처리실 내에 가스를 공급하는 가스 공급 장치를 구비하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 플라즈마 임피던스의 변화에 의거하여 일방의 가스로부터 타방의 가스로 전환한 후, 상기 제 1 고주파 전원으로부터 공급된 고주파 전력 또는 상기 제 2 고주파 전원으로부터 공급된 고주파 전력을 변화시키도록 상기 제 1 고주파 전원 또는 상기 제 2 고주파 전원을 제어하는 제어 장치를 더 구비하는 것을 특징으로 한다. |
