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发明名称
MECHANISMS FOR WAFER CLEANING
摘要
웨이퍼들을 세정하기 위한 메커니즘들과 관련된 실시예들이 제공된다. 웨이퍼 세정 방법은 습식 벤치 세정 동작에 의해 웨이퍼들을 세정하는 단계를 포함한다. 본 방법은 또한 그 후 단일 웨이퍼 세정 동작에 의해 웨이퍼들 각각을 세정하는 단계를 포함한다. 또한, 상기 방법의 성능을 증대시키기 위한 세정 장치가 또한 제공된다.
申请公布号
KR101674263(B1)
申请公布日期
2016.11.08
申请号
KR20140161563
申请日期
2014.11.19
申请人
타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人
여우 상위앤;쿠 사오이엔;시아오 치엔원;후 홍지에;창 주에이추앤;차이 웬창
分类号
H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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